半導体発光素子による光線治療方法、及び半導体発光素子による光線治療システム

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (6件)：杉村興作 , 徳永博 , 岩佐義幸 , 藤谷史朗 , 来間清志 , 冨田和幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-350705
公開番号（公開出願番号）：特開2007-151807
出願日： 2005年12月05日
公開日（公表日）： 2007年06月21日
要約：

【課題】従来の蛍光管式光線治療システムの欠点を補い、小型軽量で持ち運び可能、かつ撮影システムとの組み合わせによる皮膚疾患部のみへの局部照射が可能な光線治療システム及び光線治療方法を提供する。【解決手段】半導体紫外線発光素子を準備し、この半導体紫外線発光素子から所定の紫外線を生成及び発振させて疾患部位に照射し、前記疾患部位を治療する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

半導体紫外線発光素子を準備する工程と、前記半導体紫外線発光素子から所定の紫外線を生成及び発振させて疾患部位に照射し、前記疾患部位を治療する工程と、を具えることを特徴とする、半導体発光素子による光線治療方法。

IPC (4件)：

A61N 5/06 , A61B 17/00 , A61D 1/00 , H01S 5/343

FI (4件)：

A61N5/06 B , A61B17/00 310 , A61D1/00 Z , H01S5/343 610

Fターム (18件)：

4C060MM22 , 4C082PA03 , 4C082PC01 , 4C082PC05 , 4C082PC08 , 4C082PE10 , 4C082PG15 , 4C082PG16 , 4C082PJ04 , 5F173AA01 , 5F173AA05 , 5F173AA16 , 5F173AG14 , 5F173AH22 , 5F173AH44 , 5F173AP06 , 5F173AP13 , 5F173AP17

引用特許：

審査官引用 (11件)

紫外線照射装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-343429 出願人：日立電線株式会社
紫外発光素子およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-176228 出願人：富士通株式会社
窒化物化合物半導体層の熱処理方法及び半導体素子の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-241967 出願人：ソニー株式会社

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