特許
J-GLOBAL ID:200903061936820063
ウエハ受渡装置、ポリッシング装置、及びウエハ受け取り方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
熊谷 隆
, 高木 裕
, 貝塚 亮平
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-124093
公開番号(公開出願番号):特開2006-303249
出願日: 2005年04月21日
公開日(公表日): 2006年11月02日
要約:
【課題】トップリング(ウエハ保持機構)に保持されたウエハが離脱してプッシャー機構(ウエハ受渡機構)に着座するまでのウエハ受渡工程の所要時間を短縮できるウエハ受渡装置を提供する。【解決手段】ウエハWを保持するトップリング60と、トップリング60との間でウエハWの受け渡しを行うプッシャー機構10とを備えたウエハ受渡装置において、プッシャー機構10は、ウエハWを載置するウエハトレイ40を備え、トップリング10の下端面から離脱したウエハWがウエハトレイ40に着座するように構成し、プッシャー機構10に、ウエハWがウエハトレイ40に適正に着座したことを検知するセンサ機構50を備えた。センサ機構50は、投光装置51から投光されたセンサ光が、ウエハトレイ40に着座したウエハWによって遮断されるようになっている。【選択図】図4
請求項(抜粋):
下端面にウエハを保持するウエハ保持機構と、該ウエハ保持機構との間で前記ウエハの受け渡しを行うウエハ受渡機構とを備えたウエハ受渡装置において、
前記ウエハ受渡機構は、前記ウエハを載置するウエハ載置部を備え、前記ウエハ保持機構の下端面から離脱したウエハが前記ウエハ載置部に着座するように構成し、
前記ウエハ受渡機構は、前記ウエハが前記ウエハ載置部に適正に着座したことを検知する着座検知手段を備えることを特徴とするウエハ受渡装置。
IPC (3件):
H01L 21/677
, B24B 37/04
, H01L 21/304
FI (4件):
H01L21/68 A
, B24B37/04 Z
, H01L21/304 621D
, H01L21/304 622L
Fターム (51件):
3C058AA07
, 3C058AB03
, 3C058CA01
, 3C058CB03
, 3C058CB06
, 5F031CA02
, 5F031DA01
, 5F031DA13
, 5F031FA01
, 5F031FA03
, 5F031FA07
, 5F031FA11
, 5F031FA12
, 5F031FA14
, 5F031FA15
, 5F031FA21
, 5F031GA02
, 5F031GA36
, 5F031GA38
, 5F031GA43
, 5F031GA47
, 5F031GA48
, 5F031GA55
, 5F031GA60
, 5F031HA02
, 5F031HA10
, 5F031HA13
, 5F031HA34
, 5F031HA46
, 5F031HA48
, 5F031HA56
, 5F031HA59
, 5F031HA60
, 5F031JA05
, 5F031JA06
, 5F031JA08
, 5F031JA14
, 5F031JA17
, 5F031JA22
, 5F031JA30
, 5F031KA03
, 5F031KA20
, 5F031LA15
, 5F031MA03
, 5F031MA04
, 5F031MA06
, 5F031MA09
, 5F031MA22
, 5F031MA23
, 5F031NA17
, 5F031PA02
引用特許:
出願人引用 (1件)
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ポリッシング装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-250392
出願人:株式会社荏原製作所
審査官引用 (11件)
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基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-193320
出願人:株式会社荏原製作所
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半導体製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-349744
出願人:日本電気株式会社
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基板検出装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-275079
出願人:東京エレクトロン株式会社
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