特許
J-GLOBAL ID：200903065644039862

ポジ型感光性レジスト組成物およびその製造方法

発明者：
森本 秀信

森本 秀信 について

, 
牧野 繁男

牧野 繁男 について


出願人/特許権者：
三井化学株式会社

三井化学株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-334236
公開番号（公開出願番号）：特開2006-003861
出願日： 2004年11月18日
公開日（公表日）： 2006年01月05日
要約：
【目的】 高感度で、しかも安価な光酸発生剤を使用でき、近紫外露光および弱アルカリ現像で高解像度を示し、スルホールのある基板にも対応でき、近紫外光で露光して弱アルカリ現像液で現像することにより微細なパターン加工を解像性良く行うことができるポジ型感光性レジスト組成物を提供する。【構成】 一分子中に少なくとも1つの4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン基を有する光酸発生剤及び有機アミン化合物、酸感応性共重合体を含んでなることを特徴とするポジ型感光性レジスト組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
一分子中に少なくとも1つの4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン基を有する化合物、有機アミン化合物および下記一般式(2)で表わされる第1構成単位と、下記一般式(3)で表わされる第2構成単位と、下記一般式(4)で表わされる第3構成単位とを含む酸感応性共重合体(但し、a,b,cは組成比を表し、総和は1である)を含有することを特徴とするポジ型感光性レジスト組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/039 ,  C08F 212/14 ,  C08F 220/10 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
G03F7/039 601 ,  C08F212/14 ,  C08F220/10 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R
Fターム (33件)：
2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB15 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  2H025FA35 ,  2H025FA40 ,  2H025FA48 ,  4J100AB07P ,  4J100AL02Q ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL09Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA04R ,  4J100BA05R ,  4J100BA06R ,  4J100BA31Q ,  4J100BA40Q ,  4J100BB17Q ,  4J100BC02Q ,  4J100CA05 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (10件)
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