特許
J-GLOBAL ID：200903024910644345
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-001370
公開番号（公開出願番号）：特開2005-128573
出願日： 2005年01月06日
公開日（公表日）： 2005年05月19日
要約：
【課題】 エッチング時の表面荒れ、ラインエッジラフネスが少なく、解像性に優れ、焦点深度幅が広い、化学増幅型のポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】エステル側鎖部に多環式基含有酸解離性溶解抑制基を有し、かつ(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位を主鎖に有する、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、有機溶剤(C)とを含むポジ型レジスト組成物であって、前記(A)成分が、多環式基含有酸解離性溶解抑制基を含み、かつアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)と、 多環式基含有酸解離性溶解抑制基を含み、かつメタクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1')の、両方を有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
エステル側鎖部に多環式基含有酸解離性溶解抑制基を有し、かつ(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位を主鎖に有する、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、有機溶剤(C)とを含むポジ型レジスト組成物であって、
前記(A)成分が、
多環式基含有酸解離性溶解抑制基を含み、かつアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)と、
多環式基含有酸解離性溶解抑制基を含み、かつメタクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1')の、両方を有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F7/039
, G03F7/004
, H01L21/027
G03F7/039 601
, G03F7/004 501
, G03F7/004 503A
, H01L21/30 502R
2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025CB45
, 2H025CC03
, 2H025CC20
, 2H025FA17
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (12件)
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