特許
J-GLOBAL ID:200903071836964322

表示装置の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 前田 弘 ,  小山 廣毅 ,  竹内 祐二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-185366
公開番号(公開出願番号):特開2005-017926
出願日: 2003年06月27日
公開日(公表日): 2005年01月20日
要約:
【課題】任意にTFTを設計することができる表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】透明絶縁性基板5上にゲート端子1bを有するゲート配線1を形成する工程と、ゲート配線1の上をゲート絶縁膜6で覆う工程と、ゲート絶縁膜6の上をソース配線用金属膜で覆う工程と、ソース配線用金属膜をエッチングしてソース配線2を形成すると共にゲート端子1bの対応する部分に開口形成用マスク2cを形成する工程と、ソース配線2及び開口形成用マスク2cを覆うように第1層間絶縁膜9を形成する工程と、第1層間絶縁膜9を覆い、且つ、ゲート端子1bの対応する部分に重ならないように第2層間絶縁膜10を形成する工程と、第2層間絶縁膜10をマスクとして第1層間絶縁膜9及びゲート絶縁膜6をエッチングしてゲート端子1bを露出させる開口部を形成する工程と、を備える。【選択図】図2
請求項(抜粋):
アクティブマトリクス基板を有する表示装置の製造方法であって、 絶縁性基板上に端子を有する配線を形成する配線形成工程と、 上記配線形成工程で形成された配線を覆うようにゲート絶縁膜を形成するゲート絶縁膜形成工程と、 上記ゲート絶縁膜形成工程で形成されたゲート絶縁膜を覆うようにソース配線用金属膜を形成するソース配線用金属膜形成工程と、 上記ソース配線用金属膜形成工程で形成されたソース配線用金属膜をエッチングすることによりソース配線を形成すると共に上記配線の端子の対応する部分に開口形成用マスクを形成するソース配線形成エッチング工程と、 上記ソース配線形成エッチング工程で形成されたソース配線及び開口形成用マスクを覆うように第1層間絶縁膜を形成する第1層間絶縁膜形成工程と、 上記第1層間絶縁膜形成工程で形成された第1層間絶縁膜を覆い、且つ、上記配線の端子の対応する部分に重ならないように第2層間絶縁膜を形成する第2層間絶縁膜形成工程と、 上記第2層間絶縁膜をマスクとして上記第1層間絶縁膜及びゲート絶縁膜をエッチングするとき、上記開口形成用マスクがエッチング用のマスクとして働き、上記配線の端子を露出させる開口部を形成する開口部形成工程と、 を備えたことを特徴とする表示装置の製造方法。
IPC (5件):
G09F9/30 ,  G02F1/1368 ,  H01L21/28 ,  H01L21/336 ,  H01L29/786
FI (5件):
G09F9/30 338 ,  G02F1/1368 ,  H01L21/28 301R ,  H01L29/78 612C ,  H01L29/78 612D
Fターム (73件):
2H092GA24 ,  2H092GA41 ,  2H092GA43 ,  2H092JA24 ,  2H092JA34 ,  2H092JA42 ,  2H092JA44 ,  2H092JB32 ,  2H092JB33 ,  2H092JB69 ,  2H092NA25 ,  2H092RA10 ,  4M104AA09 ,  4M104BB14 ,  4M104BB16 ,  4M104CC01 ,  4M104CC05 ,  4M104DD08 ,  4M104DD17 ,  4M104DD37 ,  4M104DD64 ,  4M104DD65 ,  4M104FF13 ,  4M104GG20 ,  5C094AA42 ,  5C094AA43 ,  5C094AA48 ,  5C094BA03 ,  5C094BA27 ,  5C094BA43 ,  5C094CA19 ,  5C094DA13 ,  5C094DA14 ,  5C094DB02 ,  5C094DB05 ,  5C094EA04 ,  5C094EA05 ,  5C094FA01 ,  5C094FA02 ,  5C094FB12 ,  5C094FB14 ,  5C094FB15 ,  5F110AA06 ,  5F110BB01 ,  5F110CC07 ,  5F110DD02 ,  5F110EE01 ,  5F110EE03 ,  5F110EE04 ,  5F110EE15 ,  5F110EE37 ,  5F110EE44 ,  5F110FF03 ,  5F110FF30 ,  5F110GG02 ,  5F110GG15 ,  5F110GG24 ,  5F110GG45 ,  5F110HK04 ,  5F110HK09 ,  5F110HK15 ,  5F110HK21 ,  5F110HK33 ,  5F110HK35 ,  5F110NN03 ,  5F110NN04 ,  5F110NN24 ,  5F110NN27 ,  5F110NN35 ,  5F110NN36 ,  5F110NN72 ,  5F110NN73 ,  5F110QQ04
引用特許:
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (10件)
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