特許
J-GLOBAL ID：200903072541932522
ハーフトーン位相シフトフォトマスク及びそのためのハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクス並びにこれを用いたパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
韮澤 弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-231180
公開番号（公開出願番号）：特開2001-056544
出願日： 1999年08月18日
公開日（公表日）： 2001年02月27日
要約：
【要約】【課題】 露光に使用されるエキシマレーザーに長時間にわたって照射されても、透過率及び位相角が変化しないハーフトーン位相シフトフォトマスク及びそのためのブランクス。【解決手段】 透明基板101上に少なくともクロムとフッ素とを含むハーフトーン位相シフト膜102のパターンを有するハーフトーン位相シフトマスク108において、ハーフトーン位相シフト膜102により実質的に吸収される波長の光109を照射した膜をパターニングすることにより、露光用エキシマレーザー照射における光学特性変化を低減したハーフトーン位相シフトマスク。
請求項（抜粋）：
透明基板上に少なくともクロムとフッ素とを含むハーフトーン位相シフト膜を有するハーフトーン位相シフトマスク用ブランクスにおいて、前記ハーフトーン位相シフト膜により実質的に吸収される波長の光を照射することにより、露光用エキシマレーザー照射における光学特性変化を低減したことを特徴とするハーフトーン位相シフトマスク用ブランクス。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 528
2H095BA07
, 2H095BB03
, 2H095BB31
, 2H095BC20
, 2H095BC24
, 5F046AA25
, 5F046BA05
, 5F046BA08
, 5F046CA04
, 5F046CB17
出願人引用 (15件)
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審査官引用 (16件)
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