特許
J-GLOBAL ID：200903074089191156
感放射線性樹脂組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福沢 俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-347331
公開番号（公開出願番号）：特開平11-167206
出願日： 1997年12月03日
公開日（公表日）： 1999年06月22日
要約：
【要約】【課題】 特にKrFエキシマレーザーに有効に感応し、解像度および耐熱性が優れるとともに、感度およびパターン形状にも優れ、かつ現像性も良好な化学増幅型ポジ型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 感放射線性樹脂組成物は、(イ)(メタ)アクリル酸t-ブチルに代表される、酸解離性エステル基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する繰返し単位を含有するブロック単位A、およびp-ヒドロキシ(α-メチル)スチレンに代表される他の繰返し単位からなるブロック単位Bを含有し、該酸解離性エステル基が解離したときアルカリ可溶性となるアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性のブロック共重合体、並びに(ロ)感放射線性酸発生剤を含有する。
請求項（抜粋）：
(イ)下記一般式(1)で表される繰返し単位(1)からなるか、または繰返し単位(1)と下記一般式(2)で表される繰返し単位(2)とからなるブロック単位A、および下記一般式(3)で表される繰返し単位(3)からなるブロック単位Bを含有し、基Zが解離したときアルカリ可溶性となるアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性のブロック共重合体、並びに(ロ)感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】〔一般式(1)において、Zは酸解離性基を示し、R1 は水素原子、メチル基またはハロゲン原子を示す。〕【化2】〔一般式(2)において、R2 は水素原子またはメチル基を示し、R3 はフェニル基、o-、m-もしくはp-ヒドロキシフェニル基、o-、m-もしくはp-アルコキシフェニル基(但し、アルコキシ基の炭素数は1〜10である。)、o-、m-もしくはp-アルコキシカルボニルオキシフェニル基(但し、アルコキシ基の炭素数は1〜10である。)、シアノ基または-COOR4 (但し、R4は水素原子もしくは炭素数1〜10の直鎖状アルキル基を示す。)を示す。〕【化3】〔一般式(3)において、R5 は水素原子またはメチル基を示し、R6 はフェニル基、o-、m-もしくはp-ヒドロキシフェニル基、o-、m-もしくはp-アルコキシフェニル基(但し、アルコキシ基の炭素数は1〜10である。)、o-、m-もしくはp-アルコキシカルボニルオキシフェニル基(但し、アルコキシ基の炭素数は1〜10である。)、シアノ基または-COOR7 (但し、R7は水素原子もしくは炭素数1〜10の直鎖状アルキル基を示す。)を示す。〕
IPC (3件)：
G03F 7/039 601
, C08L 53/00
, C09D 5/00
G03F 7/039 601
, C08L 53/00
, C09D 5/00 Z
