特許
J-GLOBAL ID：200903078013780069

基板洗浄装置、基板洗浄方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体

発明者：
杉町 尚徳

杉町 尚徳 について

, 
松田 義隆

松田 義隆 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (3件)： 金本 哲男 ,  亀谷 美明 ,  萩原 康司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-021188
公開番号（公開出願番号）：特開2009-182222
出願日： 2008年01月31日
公開日（公表日）： 2009年08月13日
要約：
【課題】露光前のウェハの裏面全面を効率よく洗浄する。【解決手段】処理容器110の一の側面には、搬送機構101の搬送アーム120に保持されたウェハWを搬入出させる搬入出口111が形成されている。処理容器110内には、搬送アーム120に保持されたウェハWの裏面の付着物を静電気によって捕集するために帯電可能な帯電部材130と、当該ウェハWの裏面に気体を噴射できる気体噴射ノズル140が設けられている。処理容器110の底面であって、帯電部材130の周囲には、処理容器110内の雰囲気を排気する排気口150が形成されている。処理容器110内であって、搬入出口111側の内側面には、ウェハWの裏面の付着物を検査する検査機構160が設けられている。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
基板の露光前に当該基板の裏面を洗浄する基板洗浄装置であって、 基板を搬入出させる搬入出口を備えた処理容器と、 基板の外周部を保持し、前記処理容器に基板を搬入出する搬送機構と、 前記処理容器内で前記搬送機構に保持された基板の裏面に気体を噴射する気体噴射ノズルと、 前記処理容器内で前記搬送機構に保持された基板の裏面の付着物を静電気によって捕集するために帯電可能な帯電部材と、 前記処理容器内の雰囲気を排気する排気機構と、を有することを特徴とする、基板洗浄装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 ,  B08B 6/00 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
H01L21/304 646 ,  H01L21/304 645A ,  H01L21/304 648A ,  B08B6/00 ,  H01L21/30 565
Fターム (48件)：
3B116AA02 ,  3B116AA03 ,  3B116AB07 ,  3B116AB23 ,  3B116AB42 ,  3B116BB22 ,  3B116BB72 ,  3B116BB82 ,  3B116BB88 ,  3B116BB89 ,  3B116BC01 ,  3B116CD42 ,  3B116CD43 ,  5F046JA27 ,  5F157AA15 ,  5F157AA73 ,  5F157AA91 ,  5F157AB02 ,  5F157AB14 ,  5F157AB22 ,  5F157AB33 ,  5F157AB46 ,  5F157AB64 ,  5F157AB75 ,  5F157AC01 ,  5F157AC13 ,  5F157BG13 ,  5F157BG58 ,  5F157BG75 ,  5F157BG76 ,  5F157BG85 ,  5F157BG96 ,  5F157BH14 ,  5F157BH21 ,  5F157CA04 ,  5F157CA24 ,  5F157CB31 ,  5F157CE36 ,  5F157CE77 ,  5F157CF20 ,  5F157CF36 ,  5F157CF42 ,  5F157CF44 ,  5F157CF62 ,  5F157DB02 ,  5F157DB46 ,  5F157DB51 ,  5F157DC51
引用特許：
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (9件)
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