特許
J-GLOBAL ID：200903079820479778
シリコン膜形成のための方法と組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
大島 正孝
, 勝又 秀夫
, 白石 泰三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-303482
公開番号（公開出願番号）：特開2009-102224
出願日： 2008年11月28日
公開日（公表日）： 2009年05月14日
要約：
【課題】 基板に塗布する場合の濡れ性、沸点および安全性の観点から分子量のより大きなシラン重合体、特に、良質なシリコン膜を容易に形成することができる組成物を提供する。【解決手段】 光重合性を有するシラン化合物に、特定波長領域の光線を照射して光重合して得たシラン重合体を含有するシリコン膜形成用組成物並びにこの組成物を、基板に塗布し、そして熱処理および/または光処理を行うシリコン膜の形成方法。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量が800〜5,000であることを特徴とするシラン重合体。
IPC (3件)：
C01B 33/04
, C01B 33/02
, H01L 21/208
C01B33/04
, C01B33/02 D
, H01L21/208 Z
4G072AA01
, 4G072AA05
, 4G072BB09
, 4G072EE07
, 4G072FF01
, 4G072GG01
, 4G072GG03
, 4G072HH03
, 4G072RR07
, 4G072RR30
, 4G072UU02
, 4G072UU04
, 5F053AA50
, 5F053DD01
, 5F053FF01
, 5F053HH05
, 5F053KK00
, 5F053PP03
, 5F053PP20
出願人引用 (13件)
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審査官引用 (7件)
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