フォトマスクの洗浄方法、洗浄装置およびフォトマスクの洗浄液

発明者： , , ,
出願人/特許権者： , ,
代理人 (1件)：深見久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-139793
公開番号（公開出願番号）：特開2000-330262
出願日： 1999年05月20日
公開日（公表日）： 2000年11月30日
要約：

【要約】【課題】少量の薬液で従来の洗浄方法と同等あるいはそれ以上の異物除去効果を発揮し、薬品や純水の使用量を削減することができるように改良されたフォトマスクの洗浄方法を提供することを主要な目的とする。【解決手段】フォトマスクの表面に存在する有機物および金属不純物を除去する。上記フォトマスクの表面に付着している異物を、H2ガス溶解水を用いて除去する。上記フォトマスクを乾燥させる。

請求項（抜粋）：

フォトマスクの表面に存在する有機物および金属不純物を除去する第1工程と、前記フォトマスクの表面に付着している異物を、H2ガス溶解水を用いて除去する第2工程と、前記フォトマスクを乾燥させる第3工程と、を備えたフォトマスクの洗浄方法。

IPC (5件)：

G03F 1/08 , B08B 3/02 , B08B 3/08 , B08B 3/12 , H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 1/08 X , B08B 3/02 B , B08B 3/08 A , B08B 3/12 A , H01L 21/30 503 G

Fターム (20件)：

2H095BB19 , 2H095BB23 , 2H095BB38 , 3B201AA02 , 3B201BB02 , 3B201BB04 , 3B201BB05 , 3B201BB23 , 3B201BB45 , 3B201BB82 , 3B201BB85 , 3B201BB92 , 3B201BB93 , 3B201CB15 , 3B201CC01 , 3B201CC12 , 3B201CC13 , 3B201CD22 , 3B201CD43 , 5F046AA28

引用特許：

審査官引用 (11件)

電子部品等の洗浄方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-265811 出願人：日本電気株式会社, オルガノ株式会社
基板洗浄方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-335705 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
半導体基板のウエット処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-056109 出願人：日本電気株式会社

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