特許
J-GLOBAL ID：200903081364238024

基板処理装置

発明者：
上田 一成

上田 一成 について

, 
稲田 博一

稲田 博一 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 金本 哲男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-350135
公開番号（公開出願番号）：特開2001-168009
出願日： 1999年12月09日
公開日（公表日）： 2001年06月22日
要約：
【要約】【課題】 熱処理ユニットからの熱的影響を抑えるとともに,液処理ユニットの雰囲気の管理,維持を容易にする。【解決手段】 塗布現像処理装置1において,仕切り板13,14によって区画された領域に熱処理部10,12と液処理部11を分けて配置する。液処理部11には,厳格に温湿度が調整されたエアを供給し,熱処理部10,12には,それより低レベルに制御されたエアを供給する。
請求項（抜粋）：
基板に対して所定の液処理と熱処理とを行う装置であって,基板に対して所定の液処理を行う液処理ユニットを有する液処理部と,基板に対して所定の熱処理を行う熱処理ユニットを有する熱処理部とが,装置内において区画された領域に分けて配置され,これら液処理部の雰囲気と熱処理部の雰囲気とが個別に制御されるように構成されたことを特徴とする,基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  H01L 21/68
FI (4件)：
H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 567 ,  H01L 21/30 564 C ,  H01L 21/30 569 C
Fターム (29件)：
5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031DA17 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA43 ,  5F031GA48 ,  5F031HA37 ,  5F031MA02 ,  5F031MA06 ,  5F031MA23 ,  5F031MA26 ,  5F031NA02 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05 ,  5F046JA07 ,  5F046JA08 ,  5F046JA15 ,  5F046JA22 ,  5F046JA24 ,  5F046KA04 ,  5F046KA07 ,  5F046LA02 ,  5F046LA04 ,  5F046LA07 ,  5F046LA13 ,  5F046LA18
引用特許：
出願人引用 (10件)
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-013926   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-142738   出願人：東京エレクトロン株式会社
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-147188   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
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審査官引用 (6件)
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-013926   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-142738   出願人：東京エレクトロン株式会社
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-147188   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
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