特許
J-GLOBAL ID:200903081673445590
垂直共振器型発光素子及びその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山本 秀策
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-006556
公開番号(公開出願番号):特開平9-064484
出願日: 1996年01月18日
公開日(公表日): 1997年03月07日
要約:
【要約】【課題】 低しきい値電流で発振する垂直共振器型半導体レーザを提供する。【解決手段】 n型GaAs基板11の上に、n型ZnSe層12、ZnCdSe井戸層とZnSeバリア層とから構成される多重量子井戸層13、及びp型ZnSe層14を順次積層する。p型ZnSe層14の両側には、電流を狭窄するための多結晶ZnO埋込層15が配置されている。レーザ発振を得るための反射鏡として、p型ZnSe層14の上とGaAs基板14をエッチングして露出させたn型ZnSe層12の表面とに、多結晶SiO2層と多結晶TiO2層とから構成される多層膜反射鏡17p及び17nがそれぞれ形成されている。さらに、ZnO層15の上には反射鏡17pを覆うようにp型AuPd電極16が、またn型GaAs基板の裏面にはn型AuGeNi電極18が、それぞれ設置されている。
請求項(抜粋):
II-VI族半導体材料からなるエピタキシャル層の上に形成された、電流を狭窄するZnO層を備える、垂直共振器型発光素子。
IPC (5件):
H01S 3/18
, H01L 21/203
, H01L 21/363
, H01L 33/00
, H01S 3/086
FI (6件):
H01S 3/18
, H01L 21/203 M
, H01L 21/363
, H01L 33/00 D
, H01L 33/00 A
, H01S 3/086
引用特許:
審査官引用 (21件)
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面発光型第2高調波生成素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-186877
出願人:ヒューレット・パッカード・カンパニー
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面発光型第2高調波生成素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-122583
出願人:ヒューレット・パッカード・カンパニー
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特開平4-363086
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選択エッチング方法ならびに光電子素子およびその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-074389
出願人:ソニー株式会社
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半導体レーザ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-172432
出願人:株式会社島津製作所
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半導体装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-052448
出願人:株式会社東芝
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半導体レーザ素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-071518
出願人:株式会社日立製作所
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反射鏡
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-145999
出願人:松下電器産業株式会社
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半導体光導波路の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-031018
出願人:光計測技術開発株式会社
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半導体素子及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-046059
出願人:松下電器産業株式会社
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特開平4-199752
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特開平3-161981
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特開平4-297077
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特開昭60-062173
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特開昭62-173775
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特開昭55-050462
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特開昭60-160622
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特表昭61-500820
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特開昭62-141726
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ドライエツチング方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-212858
出願人:日本電気株式会社
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化合物半導体のエッチング方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-053684
出願人:松下電器産業株式会社
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