特許
J-GLOBAL ID：200903082816563315
欠陥検査装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
ポレール特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-336211
公開番号（公開出願番号）：特開2008-145399
出願日： 2006年12月13日
公開日（公表日）： 2008年06月26日
要約：
【課題】混載ウェハ(システムLSIなど)などに対して欠陥を高感度に検出し、しかも欠陥種を幅広く検出して、欠陥捕捉率を向上させた欠陥検査装置を提供することにある。【解決手段】本発明は、色収差のない反射対物レンズを採用することにより、多波長照明(複数の波長帯域を有する照射光による照明)による明るさ変動を抑制すると共に波長選択検出によって欠陥を顕在化して感度向上を図り、しかも試料上の同一空間像を異なる複数種の光学像で取得できるように構成した欠陥検査装置である。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
複数の波長帯域を有する照射光を試料の表面に対して暗視野照明する暗視野照明光学系と、
該暗視野照明光学系により複数の波長帯域を有する照射光で暗視野照明された試料の表面からの散乱光を集光する反射対物レンズと該反射対物レンズで集光した散乱光をイメージセンサの受光面に結像させる結像光学系とを有する暗視野検出光学系と、
該暗視野検出光学系のイメージセンサから得られる画像信号に基づいて前記試料の表面に存在する欠陥若しくは欠陥候補を判定する画像処理部とを備えたことを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (18件)：
2G051AA51
, 2G051AA73
, 2G051AB01
, 2G051AB03
, 2G051BA08
, 2G051BA10
, 2G051BA11
, 2G051BB05
, 2G051CA04
, 2G051CB01
, 2G051CB05
, 2G051CC07
, 2G051CC12
, 2G051DA06
, 2G051EA11
, 2G051EA16
, 2G051EB09
, 2G051ED21
出願人引用 (2件)
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国際公開特許WO2003/069263号公報
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欠陥検査装置およびその方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願平11-206078
出願人：株式会社日立製作所, 日立電子エンジニアリング株式会社
審査官引用 (13件)
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異物検査装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平4-320389
出願人：株式会社日立製作所
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欠陥検査方法及びその装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2001-330113
出願人：株式会社日立製作所
-
欠陥検査装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2000-102547
出願人：株式会社ニコン
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