特許
J-GLOBAL ID：200903085877567991
パタ-ン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-181575
公開番号（公開出願番号）：特開2000-081700
出願日： 1999年06月28日
公開日（公表日）： 2000年03月21日
要約：
【要約】【課題】 リサイクル現像液を用いても、高感度を維持しながら、線幅変化が低いパターンを与えるレジスト組成物を提供する。【解決手段】 (1)(a)アルカリ可溶性フェノール樹脂が、50重量%以上のp-クレゾールを含むフェノール類とアルデヒド類とを反応させて得られたものであり、(2)(b)ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルが、ポリヒドロキシベンゾフェノンの1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸エステルであり、(3)アルカリ可溶性フェノール樹脂とナフトキノンジアジドスルホン酸エステルの量が、それぞれa重量部およびb重量部であるとき、10≦((b/(a+b))×100)≦23のポジ型レジスト組成物とリサイクル現像液とを用いてレジストパターンを形成する。
請求項（抜粋）：
(a)アルカリ可溶性フェノール樹脂、および(b)ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルを含有するポジ型レジスト組成物とリサイクル現像液とを用いるパターン形成方法であって、ポジ型レジスト組成物が、(1)(a)アルカリ可溶性フェノール樹脂が、50重量%以上のp-クレゾールを含むフェノール類とアルデヒド類とを反応させて得られたものであり、(2)(b)ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルが、ポリヒドロキシベンゾフェノンの1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸エステルであり、(3)アルカリ可溶性フェノール樹脂とナフトキノンジアジドスルホン酸エステルの量が、それぞれa重量部およびb重量部であるとき、10≦((b/(a+b))×100)≦23の関係にあることを特徴とするパターン形成方法。
IPC (7件)：
G03F 7/023 511
, G02F 1/13 101
, G03F 7/022 601
, H01L 21/027
, H01J 9/02
, H01J 9/227
, H01J 11/02
G03F 7/023 511
, G02F 1/13 101
, G03F 7/022 601
, H01J 9/02 F
, H01J 9/227 E
, H01J 11/02 B
, H01L 21/30 502 R
