特許
J-GLOBAL ID：200903088149089500
溶液プラズマ反応装置及び該装置を使用したナノ材料の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
芳村 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-250221
公開番号（公開出願番号）：特開2008-071656
出願日： 2006年09月15日
公開日（公表日）： 2008年03月27日
要約：
【課題】低コストで有害廃棄物の発生を防止しながら、ナノ材料を効率良く製造する溶液プラズマ反応装置及び該装置を使用したナノ材料の製造方法を提供する。【解決手段】反応装置は、溶液反応槽1及び反応槽1内に配置されるプラズマ発生電極2を具備するもので、プラズマ発生電極2は、中心部に配置したガス導入管3及びその周囲に配置した円柱状の電極部4により構成される。電極部4の中心には冷却媒体導入部5が設置されており、空冷もしくは水冷等により冷却可能となっている。電極部4には高周波電源から高周波を印加する高周波入力端子6が、電極部4の外側から電極部4の中心部の空洞9に達するように設けられている。ガス導入管3から入ったガスが高周波入力端子6から導入された電場によりプラズマ化し、このプラズマが反応槽1内の反応液8に導入され、反応液の一部が直接プラズマ化して溶液プラズマを形成する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
溶液反応槽内に、ガス導入管及びその周囲に配置した高周波電源に接続する柱状の電極部からなるプラズマ発生電極を設けたことを特徴とする溶液プラズマ反応装置。
IPC (5件)：
H05H 1/24
, B82B 3/00
, B22F 9/02
, B22F 9/24
, B22F 9/14
H05H1/24
, B82B3/00
, B22F9/02 Z
, B22F9/24 Z
, B22F9/14 Z
4K017AA02
, 4K017AA03
, 4K017AA04
, 4K017AA06
, 4K017BA01
, 4K017BA02
, 4K017BA03
, 4K017BA05
, 4K017BA06
, 4K017CA08
, 4K017EF00
, 4K017EF04
, 4K017EJ01
, 4K017EJ02
, 4K017FA20
出願人引用 (3件)
審査官引用 (7件)
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