特許
J-GLOBAL ID:200903089045242826
レジスト用剥離液とその利用
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-360497
公開番号(公開出願番号):特開2002-162754
出願日: 2000年11月28日
公開日(公表日): 2002年06月07日
要約:
【要約】【課題】 低温で剥離可能であり、かつ銅配線材料に対しても、銅の腐食がない新規なレジスト剥離液を提供する。【解決手段】 テトラアルキルアンモニウム水酸化物、アルカノールアミン類、水、および多価カルボニル化合物を含有するレジスト用剥離液を使用し、銅配線基板を製造する。
請求項(抜粋):
テトラアルキルアンモニウム水酸化物、アルカノールアミン、水、および多価カルボニル化合物を含有するレジスト用剥離液。
IPC (2件):
FI (2件):
G03F 7/42
, H01L 21/30 572 B
Fターム (3件):
2H096AA25
, 2H096LA03
, 5F046MA02
引用特許:
審査官引用 (10件)
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剥離剤組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-255695
出願人:花王株式会社
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剥離剤組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-255696
出願人:花王株式会社
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フォトレジスト剥離用組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-098494
出願人:東レ・ファインケミカル株式会社
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