特許
J-GLOBAL ID：200903089420109144

ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法

発明者：
滝田 敏

滝田 敏 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (2件)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-146385
公開番号（公開出願番号）：特開2009-098616
出願日： 2008年06月04日
公開日（公表日）： 2009年05月07日
要約：
【課題】感度、残膜率、保存安定性に優れた、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法であって、硬化させることにより耐熱性、密着性、透過率などに優れる硬化膜が得られる、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法を提供することである。【解決手段】解離性基が解離することで、カルボキシル基を生じる特定のアクリル酸系構成単位とカルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基を有する構成単位を含有し、アルカリ不溶性若しくはアルカリ難溶性であり、且つ、酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物、及び、それを用いた硬化膜形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)酸解離性基を有する下記一般式(1)で表される構成単位とカルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基を有する構成単位を含有し、アルカリ不溶性若しくはアルカリ難溶性であり、且つ、当該酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、 (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を少なくとも含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/40 ,  C08F 220/26 ,  H01L 21/027
FI (6件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/40 501 ,  C08F220/26 ,  H01L21/30 502R
Fターム (40件)：
2H025AA01 ,  2H025AA10 ,  2H025AA11 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE08 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CC06 ,  2H025CC20 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  2H025FA30 ,  2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096BA11 ,  2H096EA02 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096HA01 ,  2H096HA03 ,  2H096JA04 ,  4J100AL08P ,  4J100AL10Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA03Q ,  4J100BC23P ,  4J100BC43P ,  4J100BC43Q ,  4J100BC53P ,  4J100BC54Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (7件)
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引用文献：
審査官引用 (1件)
  • Photoacid Generators forMicrolithography, 2006

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