ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：高松猛 , 矢澤清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-146385
公開番号（公開出願番号）：特開2009-098616
出願日： 2008年06月04日
公開日（公表日）： 2009年05月07日
要約：

【課題】感度、残膜率、保存安定性に優れた、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法であって、硬化させることにより耐熱性、密着性、透過率などに優れる硬化膜が得られる、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法を提供することである。【解決手段】解離性基が解離することで、カルボキシル基を生じる特定のアクリル酸系構成単位とカルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基を有する構成単位を含有し、アルカリ不溶性若しくはアルカリ難溶性であり、且つ、酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物、及び、それを用いた硬化膜形成方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)酸解離性基を有する下記一般式(1)で表される構成単位とカルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基を有する構成単位を含有し、アルカリ不溶性若しくはアルカリ難溶性であり、且つ、当該酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、 (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を少なくとも含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/039 , G03F 7/004 , G03F 7/40 , C08F 220/26 , H01L 21/027

FI (6件)：

G03F7/039 601 , G03F7/004 503A , G03F7/004 501 , G03F7/40 501 , C08F220/26 , H01L21/30 502R

Fターム (40件)：

2H025AA01 , 2H025AA10 , 2H025AA11 , 2H025AA14 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AC01 , 2H025AD03 , 2H025BE08 , 2H025BF02 , 2H025BG00 , 2H025CC06 , 2H025CC20 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 2H025FA29 , 2H025FA30 , 2H096AA25 , 2H096AA27 , 2H096BA11 , 2H096EA02 , 2H096FA01 , 2H096GA08 , 2H096HA01 , 2H096HA03 , 2H096JA04 , 4J100AL08P , 4J100AL10Q , 4J100BA02P , 4J100BA03Q , 4J100BC23P , 4J100BC43P , 4J100BC43Q , 4J100BC53P , 4J100BC54Q , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (5件)

感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-350470 出願人：日本合成ゴム株式会社
感光性樹脂組成物およびこれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-327699 出願人：東京応化工業株式会社
ポジ型化学増幅型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-085686 出願人：住友化学工業株式会社

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審査官引用 (7件)

感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-055176 出願人：JSR株式会社
感光性樹脂組成物およびパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-334643 出願人：日本電気株式会社
高感度の高解像度i-線ホトレジスト
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-144327 出願人：チバ-ガイギーアクチエンゲゼルシャフト, オーシージーミクロエレクトロニクスインコーポレーテッド

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引用文献：

出願人引用 (1件)

Photoacid Generators forMicrolithography, 2006

審査官引用 (1件)

Photoacid Generators forMicrolithography, 2006

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