リソグラフィ装置及びデバイス製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：浅村皓 , 浅村肇 , 岩本行夫 , 吉田裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-319029
公開番号（公開出願番号）：特開2006-135325
出願日： 2005年11月02日
公開日（公表日）： 2006年05月25日
要約：

【課題】リソグラフィ装置及びデバイス製造方法を提供すること。【解決手段】リソグラフィ装置は、投影放射ビームを提供するための照明システムと、投影ビーム中の放射を透過若しくは反射させ、投影ビームの断面にパターンを付与するように機能するパターン化デバイスを支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、パターン化されたビームを基板の目標部分に投射するための投影装置とを備えている。基板部分における投影ビームの空間強度分布を測定するためのセンサが提供されている。パターン化デバイスの透過率若しくは反射率の空間分布は、パターン化デバイスに入射する投影ビームの分布と共に、測定した強度分布から決定することができる。全く同じパターンを有する領域の透過率若しくは反射率を比較することにより、パターン化デバイスの透過率若しくは反射率の総合(巨視的)分布を決定することができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

放射ビームを条件付けるための照明システムと、前記放射ビームの断面にパターンを付与するように機能するパターン化デバイスを支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、パターン化された放射ビームを前記基板の目標部分に投射するための投影装置と、前記パターン化されたビームの基板レベルにおける空間強度分布を測定するためのセンサと、前記基板レベルで測定した空間強度分布に基づいて、前記パターン化デバイスの透過率若しくは反射率の空間分布、及び前記パターン化デバイスに入射する前記放射ビームの強度分布を決定するためのアナライザとを備えたリソグラフィ装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20

FI (2件)：

H01L21/30 516Z , G03F7/20 521

Fターム (5件)：

5F046CB17 , 5F046DA02 , 5F046DA30 , 5F046DB01 , 5F046DC10

引用特許：

審査官引用 (11件)

露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-320039 出願人：キヤノン株式会社
半導体露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-041694 出願人：キヤノン株式会社
走査型露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-176781 出願人：キヤノン株式会社

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