特許
J-GLOBAL ID:200903093146548370

プラズマ発生のためのプラズマソースコイル及びそれを利用したプラズマチャンバ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-189369
公開番号(公開出願番号):特開2005-019412
出願日: 2004年06月28日
公開日(公表日): 2005年01月20日
要約:
【課題】プラズマ発生のためのプラズマソースコイル及びそれを利用したプラズマチャンバを提供する。【解決手段】電源からの電力を印加されて所定の反応空間内にプラズマを均一に形成させるためのプラズマソースコイルである。このコイル構造は、2以上の整数であるm個の単位コイルが正の実数であるn回の回転数を有しつつ中央で所定の半径を有するコイルブッシングから延びて前記コイルブッシングを中心として螺旋状の循環型に配置される構造を含む。【選択図】図2
請求項(抜粋):
電源からの電力を印加されて所定の反応空間内にプラズマを形成させるためのプラズマ発生のためのプラズマソースコイルにおいて、 2以上の整数であるm個の単位コイルが正の実数であるn回の回転数を有しつつ中央で所定の半径を有するコイルブッシングから延びて前記コイルブッシングを中心として螺旋状の循環型に配置されることを特徴とするプラズマソースコイル。
IPC (3件):
H05H1/46 ,  H01L21/205 ,  H01L21/3065
FI (3件):
H05H1/46 L ,  H01L21/205 ,  H01L21/302 101C
Fターム (9件):
5F004AA01 ,  5F004AA02 ,  5F004BA20 ,  5F004BB29 ,  5F004BB32 ,  5F045AA08 ,  5F045BB01 ,  5F045EH01 ,  5F045EH19
引用特許:
審査官引用 (15件)
全件表示

前のページに戻る