特許
J-GLOBAL ID：200903094052822181
質量分析システム、質量分析方法、質量分析装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-230757
公開番号（公開出願番号）：特開2004-071420
出願日： 2002年08月08日
公開日（公表日）： 2004年03月04日
要約：
【課題】タンデム質量分析可能なサンプルの数は限られているため、タンデム質量分析を施すことができない強度の低いイオンが存在する場合、夾雑成分が非常に多い場合には、分析したい微量サンプルのタンデム質量分析ができないという問題がある。【解決手段】上記課題を解決するために、分析対象候補物質の情報を第一のデータベースとして有し、分析対象ではないイオンを1次質量分析より前に排除するための高周波電圧が印加できる高周波電源を有し、分析対象イオンを優先的にタンデム質量分析する質量分析システムが提供される。【効果】未知の夾雑成分が多量に混入している場合にも分析したい微量サンプルを高感度に質量分析できる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
試料をイオン化するイオン源と、前記試料をイオン化したイオンの1次質量分析及び前記1次質量分析の後に前記イオンを解離させて生じた解離イオンの2次質量分析を行う質量分析部と、分析対象外イオンを前記1次質量分析より前に排除するための高周波電圧を印加する高周波電源と、前記分析対象外イオンの排除命令を前記高周波電源に出力する制御部とを有することを特徴とする質量分析システム。
IPC (4件)：
H01J49/26
, G01N27/62
, H01J49/40
, H01J49/42
H01J49/26
, G01N27/62 D
, G01N27/62 L
, G01N27/62 V
, G01N27/62 X
, H01J49/40
, H01J49/42
5C038HH01
, 5C038HH02
, 5C038HH05
, 5C038HH16
, 5C038HH21
, 5C038HH26
, 5C038HH28
, 5C038JJ01
, 5C038JJ06
, 5C038JJ07
, 5C038JJ11
