ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 青山正和 , 鈴木三義 , 柳井則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-143969
公開番号（公開出願番号）：特開2006-322989
出願日： 2005年05月17日
公開日（公表日）： 2006年11月30日
要約：

【課題】露光量が変化した際のパターンサイズの変動を小さく抑えることができるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】樹脂成分(A)は、アセタール型保護基を有する構成単位(a1)と、ラクトン含有環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a2)と、極性基含有脂肪族炭化水素基を含有するアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a3)とを含む高分子化合物(A1)を含有し、かつ酸発生剤成分(B)は、下記一般式(b-1)[式中、R11はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、または水酸基;R12〜R13はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよいアリール基またはアルキル基;n’は0または1〜3の整数を表す。]で表されるカチオン部を有するオニウム塩系酸発生剤(B1)を含むポジ型レジスト組成物およびこれを用いたレジストパターン形成方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂成分(A)と、放射線の照射により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含有するポジ型レジスト組成物であって、前記(A)成分は、下記一般式(a1-2)で表される構成単位、及び(a1-4)で表される構成単位からなる群から選ばれる1種以上の構成単位(a1)と、

IPC (4件)：

G03F 7/039 , C08F 220/28 , G03F 7/004 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F7/039 601 , C08F220/28 , G03F7/004 503A , H01L21/30 502R

Fターム (23件)：

2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CB45 , 2H025CC20 , 2H025FA17 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100BA02P , 4J100BA03R , 4J100BC09P , 4J100BC09R , 4J100BC53Q , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (1件)

特許第2881969号公報

審査官引用 (10件)

高分子化合物、それを用いた感光性樹脂組成物およびパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-309742 出願人：日本電気株式会社
レジスト用重合体の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-321906 出願人：三菱レイヨン株式会社
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-046285 出願人：富士写真フイルム株式会社

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