薄板支持装置およびイオン注入装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川信一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-096706
公開番号（公開出願番号）：特開2003-297771
出願日： 2002年03月29日
公開日（公表日）： 2003年10月17日
要約：

【要約】【課題】大面積の液晶表示用ガラス基板に、イオン注入操作を行う装置を提供する。【解決手段】被処理基板pを枠部4aの片面に支持可能で、背後に横ガイド部材4fを設けた薄板支持装置4Sと、両端を開口した筒状の本体2hと、この開口部をそれぞれ閉止する蓋体2b、2cを持ち、その内部を真空にでき、前記薄板支持装置4Sを立てた状態で通過させることが出来るロードロックチャンバー2と、このロードロックチャンバー2の一方の開口と接続できる開口を持ち、前記薄板支持装置4Sを縦方向に収容できる下側室3aと、この下側室3aの上方に連続して形成され、前記薄板支持装置4Sを縦方向に収容できる上側室3bと、前記下側室3aと上側室3bとの間に形成されたイオンビーム照射部9を有するプロセスチャンバー3とから構成されている。

請求項（抜粋）：

板部の周囲に枠部を形成した薄板支持フレームの周囲に複数の把持装置を配置した前記薄板支持フレームの片面に被処理基板を重ね、この被処理基板の周囲の複数箇所を前記把持装置で把持固定することが可能であると共に、この薄板支持フレームの下辺に、ロードロックチャンバーに設けられた横搬送装置のワーク受け台と係合できる係合部を設け、更に裏面に横ガイド部材を設けてなる薄板支持装置。

IPC (7件)：

H01L 21/265 603 , H01L 21/265 , B65D 85/86 , B65G 49/06 , G02F 1/13 101 , H01J 37/317 , H01L 21/68

FI (8件)：

H01L 21/265 603 C , H01L 21/265 603 D , B65G 49/06 A , G02F 1/13 101 , H01J 37/317 B , H01L 21/68 A , H01L 21/68 N , B65D 85/38 K

Fターム (41件)：

2H088FA17 , 2H088FA19 , 2H088FA24 , 2H088FA30 , 2H088HA01 , 2H088MA20 , 3E096AA01 , 3E096BA20 , 3E096BA24 , 3E096BB05 , 3E096CA01 , 3E096CB03 , 3E096DA11 , 3E096DA23 , 3E096FA01 , 3E096FA26 , 3E096FA27 , 3E096FA31 , 3E096GA01 , 3E096GA14 , 5C034CC10 , 5C034CC12 , 5F031CA05 , 5F031DA13 , 5F031FA02 , 5F031FA07 , 5F031FA12 , 5F031FA18 , 5F031GA10 , 5F031GA14 , 5F031GA15 , 5F031HA24 , 5F031HA25 , 5F031HA27 , 5F031HA45 , 5F031HA57 , 5F031HA60 , 5F031MA31 , 5F031PA13 , 5F031PA18 , 5F031PA26

引用特許：

審査官引用 (10件)

イオン注入方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-033738 出願人：株式会社ジーティシー
特開平4-191360
基板処理システムの基板搬送方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-129882 出願人：旭硝子株式会社

全件表示

前のページに戻る