反射防止コ-ティング組成物

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐伯憲生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-301489
公開番号（公開出願番号）：特開2000-187331
出願日： 1999年09月16日
公開日（公表日）： 2000年07月04日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】反射防止組成物(ARC)としての使用に好適な、特に193nmのような短波長での画像形成に好適な、新規な光吸収性架橋性組成物を提供する。【解決手段】(a)基板の上に、フェニル基を有する樹脂バインダーを含む反射防止組成物の層を設けること;(b)反射防止組成物層を硬化すること;(c)反射防止組成物の層の上にフォトレジスト組成物の層を設けること;(d)フォトレジスト層を活性化照射光で露光し、そして露光したフォトレジストの層を現像すること;を含む、フォトレジストレリーフ画像を形成するための方法。【効果】ARC類は、好ましくは上塗りされたレジスト層(すなわちARC類を底層として)と共に使用され、一般に、新規なARC樹脂バインダーを含み、反射された200nm未満の露光照射光を効果的に吸収することができる。

請求項（抜粋）：

(a)基板の上に、フェニル基を有する樹脂バインダーを含む反射防止組成物の層を設けること;(b)反射防止組成物層を硬化すること;(c)反射防止組成物の層の上にフォトレジスト組成物の層を設けること;(d)フォトレジスト層を活性化照射光で露光し、そして露光したフォトレジストの層を現像すること;を含む、フォトレジストレリーフ画像を形成するための方法。

IPC (4件)：

G03F 7/11 503 , G03F 7/039 , H01L 21/027 , C08F220/10

FI (4件)：

G03F 7/11 503 , G03F 7/039 , C08F220/10 , H01L 21/30 574

引用特許：

審査官引用 (20件)

ハレーション止め組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-328816 出願人：シツプリイ・カンパニイ・インコーポレイテツド
アリールヒドラゾ染料を含有する底部反射防止膜
公報種別：公表公報出願番号：特願平10-516208 出願人：クラリアント・インターナショナル・リミテッド
反射防止膜およびこれを使用した半導体装置の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-281728 出願人：三星電子株式会社

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