特許
J-GLOBAL ID：201003016100285061

ウエハの洗浄方法及び記憶媒体

発明者：
井関 智弘

井関 智弘 について

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緒方 信博

緒方 信博 について

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丸本 洋

丸本 洋 について

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福田 昌弘

福田 昌弘 について

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大河内 厚

大河内 厚 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (2件)： 井上 俊夫 ,  三井田 友昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-291043
公開番号（公開出願番号）：特開2010-118519
出願日： 2008年11月13日
公開日（公表日）： 2010年05月27日
要約：
【課題】ウエハのベベル部を良好に洗浄することのできるウエハの洗浄方法に関する技術を提供すること。【解決手段】 ウエハWの洗浄時に、ウエハWをスピンチャック11により回転させながら、上ノズル93によりウエハW表面70側のベベル部72にその上方からシンナー等の洗浄液吐出する工程(a)と同時に、内カップ34に設けられた切り欠き部37に着脱自在に嵌合された下ノズル40からウエハW裏面71側のベベル部72またはウエハWの側端部からウエハの中心寄り3mm以内の部位にウエハWの径方向外方側に向けて洗浄液を吐出することにより、ウエハWのベベル部72の洗浄を行う工程(b)とを行い、レジスト膜80がベベル部72に残存することを抑えて、ベベル部72のパーティクルの付着を防止する。【選択図】図11
請求項（抜粋）：
基板保持部に水平に保持したウエハの下方領域を囲むように内カップが設けられ、前記ウエハの表面にスピンコーティングにより塗布膜を形成する塗布膜形成装置にて、塗布膜形成後のウエハに塗布膜を溶解する洗浄液を吐出して洗浄する方法において、 前記ウエハを基板保持部により回転させながら、上ノズルによりウエハ表面側のベベル部にその上方から洗浄液を吐出する工程(a)と、 この工程と同時に、前記内カップに設けられたノズル装着用の切り欠き部に着脱自在に嵌合された下ノズルからウエハ裏面側のベベル部または当該ベベル部からウエハの中心寄り10mm以内の部位にウエハの径方向外方側に向けて洗浄液を吐出することにより、ウエハのベベル部の洗浄を行う工程(b)と、を含むことを特徴とするウエハの洗浄方法。
IPC (5件)：
H01L 21/027 ,  H01L 21/304 ,  B05D 3/10 ,  B05D 1/40 ,  B05D 7/00
FI (6件)：
H01L21/30 577 ,  H01L21/304 643A ,  H01L21/304 648G ,  B05D3/10 F ,  B05D1/40 A ,  B05D7/00 H
Fターム (36件)：
4D075AC65 ,  4D075AC73 ,  4D075AC79 ,  4D075AC84 ,  4D075AC93 ,  4D075AE24 ,  4D075BB65Z ,  4D075DC22 ,  5F046JA09 ,  5F046JA15 ,  5F046LA02 ,  5F046LA04 ,  5F157AA12 ,  5F157AA17 ,  5F157AA64 ,  5F157AA73 ,  5F157AB02 ,  5F157AB16 ,  5F157AB33 ,  5F157AB90 ,  5F157AC01 ,  5F157AC13 ,  5F157BB23 ,  5F157BB32 ,  5F157BB39 ,  5F157CB13 ,  5F157CE03 ,  5F157CE05 ,  5F157CE07 ,  5F157CE32 ,  5F157CF72 ,  5F157DA21 ,  5F157DB02 ,  5F157DB38 ,  5F157DB47 ,  5F157DB51
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (9件)
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