特許
J-GLOBAL ID：201003047606948258
ナノインプリントモールドおよびパターン形成方法
発明者：
,
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
米田 潤三
, 皿田 秀夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-127366
公開番号（公開出願番号）：特開2010-274460
出願日： 2009年05月27日
公開日（公表日）： 2010年12月09日
要約：
【課題】微細パターンを高い精度で形成することが可能なナノインプリントモールドと、このナノインプリントモールドを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】ナノインプリントモールド(1)を、厚みが4mm以下である透明な基材(2)と、この基材の表面(2a)側に形成された凹凸パターン(3)と、反射防止部(4)とを有するものとし、反射防止部(4)を、基材(2)の裏面(2b)側の少なくとも一部の領域、あるいは基材(2)の内部の少なくとも一部の領域に位置させたものとする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
厚みが4mm以下である透明な基材と、該基材の表面側に形成された凹凸パターンと、反射防止部とを有し、該反射防止部は前記基材の裏面側の少なくとも一部の領域、あるいは前記基材の内部の少なくとも一部の領域に位置することを特徴としたナノインプリントモールド。
IPC (3件)：
B29C 33/42
, B29C 59/02
, H01L 21/027
B29C33/42
, B29C59/02 B
, H01L21/30 502D
4F202AG05
, 4F202AH73
, 4F202AH78
, 4F202AJ02
, 4F202AJ08
, 4F202AJ09
, 4F202CA19
, 4F202CB01
, 4F202CD22
, 4F202CD25
, 4F202CK12
, 4F209AH33
, 4F209AH73
, 4F209AJ02
, 4F209AJ06
, 4F209AJ08
, 4F209AJ09
, 4F209AJ11
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PN06
, 4F209PN09
, 4F209PQ11
, 5F046AA28
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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