特許
J-GLOBAL ID:201003054599676790
基板処理装置及び基板搬送方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
井上 俊夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-277854
公開番号(公開出願番号):特開2010-067992
出願日: 2009年12月07日
公開日(公表日): 2010年03月25日
要約:
【課題】真空チャンバ間のゲートバルブを開放するときの衝撃波を抑えると共に真空チャンバ内にガスが供給されるときの粘性力によるパーティクルの剥がれを抑え、これにより基板に対するパーティクル汚染を抑えること。【解決手段】例えば一方の真空チャンバが基板に対して真空処理を行うための基板処理室、他方が基板搬送装置を備えた搬送室であるとするとゲートバルブを開く前に両方のチャンバ内の圧力が66.5Paよりも低くかつ圧力検出値の高い方が低い方の2倍よりも小さいことを条件にゲート弁を開くようにする。この場合、基板処理室内に圧力調整用のパージガスを供給する前に圧力調整用のパージガスの流量よりも大きな流量でパーティクル剥離用のパージガスを供給することが好ましい。また両方のチャンバ内のいずれもが9.98Paよりも低いことを条件にゲートを開くことも有効である。【選択図】図15
請求項(抜粋):
第1の真空チャンバに、仕切り弁により開閉される搬送口を介して第2の真空チャンバが接続され、基板搬送装置により第1の真空チャンバ及び第2の真空チャンバの間で前記搬送口を介して基板を搬送するように構成され、基板に対して真空処理が行われる基板処理装置において、
前記第1の真空チャンバ内の圧力を検出する第1の圧力検出部と、
前記第2の真空チャンバ内の圧力を検出する第2の圧力検出部と、
前記第1の真空チャンバ内及び第2の真空チャンバ内の一方に圧力調整用のパージガスを供給する圧力調整用のパージガス供給手段と、
前記第1の圧力検出部及び第2の圧力検出部の各圧力検出値がいずれも66.5Paよりも低くかつ圧力検出値の高い方が低い方の2倍よりも小さいことを条件に仕切り弁を開くための制御信号を出力する制御部と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (11件):
H01L 21/677
, B65G 49/00
, H01L 21/02
, H01L 21/306
, H01L 21/205
, H01L 21/31
, C23C 14/00
, C23C 14/50
, C23C 16/44
, C23C 16/54
, H01L 21/027
FI (13件):
H01L21/68 A
, B65G49/00 C
, H01L21/02 Z
, H01L21/302 101G
, H01L21/302 104H
, H01L21/205
, H01L21/31 C
, C23C14/00 B
, C23C14/50 K
, C23C16/44 J
, C23C16/44 F
, C23C16/54
, H01L21/30 572A
Fターム (54件):
4K029AA06
, 4K029AA24
, 4K029DA09
, 4K029EA03
, 4K029KA01
, 4K029KA09
, 4K030CA04
, 4K030CA12
, 4K030GA12
, 4K030JA09
, 5F004AA16
, 5F004BA04
, 5F004BB28
, 5F004BC05
, 5F004BC06
, 5F004BD01
, 5F004BD04
, 5F004CA01
, 5F004CA02
, 5F031CA02
, 5F031DA01
, 5F031FA01
, 5F031FA07
, 5F031FA11
, 5F031FA12
, 5F031FA15
, 5F031GA45
, 5F031GA47
, 5F031GA50
, 5F031JA10
, 5F031JA47
, 5F031KA12
, 5F031LA07
, 5F031LA13
, 5F031MA04
, 5F031MA06
, 5F031MA28
, 5F031MA30
, 5F031MA32
, 5F031NA04
, 5F031NA05
, 5F031NA09
, 5F031PA03
, 5F031PA23
, 5F045AA08
, 5F045DP03
, 5F045DQ10
, 5F045DQ17
, 5F045EB08
, 5F045EE18
, 5F045EF05
, 5F045EH13
, 5F045EN04
, 5F046MA12
引用特許:
出願人引用 (14件)
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審査官引用 (12件)
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