特許
J-GLOBAL ID：201103002334059720
パターン形成方法及びレジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (18件)：
蔵田 昌俊
, 河野 哲
, 中村 誠
, 福原 淑弘
, 峰 隆司
, 白根 俊郎
, 村松 貞男
, 野河 信久
, 幸長 保次郎
, 河野 直樹
, 砂川 克
, 勝村 紘
, 佐藤 立志
, 岡田 貴志
, 堀内 美保子
, 竹内 将訓
, 市原 卓三
, 山下 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-082701
公開番号（公開出願番号）：特開2011-215333
出願日： 2010年03月31日
公開日（公表日）： 2011年10月27日
要約：
【課題】現像欠陥の少ないパターンを形成可能とするパターン形成方法及びレジスト組成物を提供する。【解決手段】本発明に係るパターン形成方法は、(A)レジスト組成物を用いて膜を形成することと、(B)前記膜を露光することと、(C)有機溶剤を含んだ現像液を用いて前記露光された膜を現像することとを含んでいる。上記レジスト組成物は、酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる基を備えた繰り返し単位を含んだ樹脂と、下記成分(S1)及び成分(S2)の少なくとも一方を含んだ溶剤とを含有している。 (S1)プロピレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート; (S2)プロピレングリコールモノアルキルエーテル、乳酸エステル、酢酸エステル、アルコキシプロピオン酸エステル、鎖状ケトン、環状ケトン、ラクトン、及びアルキレンカーボネートからなる群より選択される少なくとも1つ。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A)レジスト組成物を用いて膜を形成することと、
(B)前記膜を露光することと、
(C)有機溶剤を含んだ現像液を用いて前記露光された膜を現像することと
を含んだパターン形成方法であって、
前記レジスト組成物は、
酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる基を備えた繰り返し単位を含み且つ酸の作用により有機溶剤を含んだ現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、
下記成分(S1)及び成分(S2)の少なくとも一方を含んだ溶剤と
を含有しているパターン形成方法。
(S1)プロピレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート;
(S2)プロピレングリコールモノアルキルエーテル、乳酸エステル、酢酸エステル、アルコキシプロピオン酸エステル、鎖状ケトン、環状ケトン、ラクトン、及びアルキレンカーボネートからなる群より選択される少なくとも1つ。
IPC (4件)：
G03F 7/038
, G03F 7/004
, G03F 7/32
, H01L 21/027
G03F7/038 601
, G03F7/004 501
, G03F7/32
, H01L21/30 502R
2H096AA25
, 2H096BA01
, 2H096DA01
, 2H096EA04
, 2H096EA30
, 2H096FA01
, 2H096GA03
, 2H096GA08
, 2H096HA01
, 2H125AF17P
, 2H125AF18P
, 2H125AF21P
, 2H125AF36P
, 2H125AF38P
, 2H125AF39P
, 2H125AF45P
, 2H125AH05
, 2H125AH06
, 2H125AH07
, 2H125AH13
, 2H125AH14
, 2H125AH22
, 2H125AJ14X
, 2H125AJ18X
, 2H125AJ65X
, 2H125AJ66X
, 2H125AJ68X
, 2H125AN08P
, 2H125AN37P
, 2H125AN38P
, 2H125AN39P
, 2H125AN42P
, 2H125AN44P
, 2H125AN51P
, 2H125AN54P
, 2H125AN57P
, 2H125AN58P
, 2H125AN59P
, 2H125AN62P
, 2H125AN63P
, 2H125AN65P
, 2H125AN86P
, 2H125BA01P
, 2H125BA02P
, 2H125BA26P
, 2H125BA32P
, 2H125BA33P
, 2H125CA12
, 2H125CB09
, 2H125CC01
, 2H125CC15
, 2H125CC23
, 2H125FA03
