特許
J-GLOBAL ID：201103033091853697

ポジ型電子線又はX線レジスト組成物

発明者：
阿出川 豊

阿出川 豊 について

, 
児玉 邦彦

児玉 邦彦 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-252141
公開番号（公開出願番号）：特開2001-075283
特許番号：特許第4007569号
出願日： 1999年09月06日
公開日（公表日）： 2001年03月23日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 (a)電子線又はX線の照射により酸を発生し、カチオン部位の置換基上に少なくとも一つの電子求引性基を有するオニウム塩、及び (b)酸の作用により、アルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂 を含有し、(a)オニウム塩が、下記一般式(I)〜(III)で表される化合物からなる群から選択される少なくとも1種の化合物であることを特徴とするポジ型電子線又はX線レジスト組成物。 (式中R1〜R15のうち少なくとも1つ、R16〜R43のうち少なくとも1つ、R44〜R53のうち少なくとも1つは、電子求引性基を表す。残りのR1〜R53は、同一又は異なって、水素原子、分岐状あるいは環状となってもよいアルキル基、分岐状あるいは環状となってもよいアルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、又は-S-R54基を表す。R54は分岐状あるいは環状となってもよいアルキル基又はアリール基を表す。また、R1〜R15、R16〜R43、R44〜R53のうち、2つ以上が結合して、単結合、炭素原子、酸素原子、硫黄原子、及び窒素原子から選択される1種又は2種以上を含む環を形成してもよい。 X-は、 少なくとも1個のフッ素原子、 少なくとも1個のフッ素原子で置換された、分岐状あるいは環状になってもよいアルキル基、 少なくとも1個のフッ素原子で置換された、分岐状あるいは環状になってもよいアルコキシ基、 少なくとも1個のフッ素原子で置換されたアシル基、 少なくとも1個のフッ素原子で置換されたアシロキシ基、 少なくとも1個のフッ素原子で置換されたアリール基、 少なくとも1個のフッ素原子で置換されたアラルキル基、及び 少なくとも1個のフッ素原子で置換されたアルコキシカルボニル基から選択された少なくとも1種を有する、ベンゼンスルホン酸のアニオンを表す。)
IPC (3件)：
G03F 7/039 ( 200 6.01) ,  G03F 7/004 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)
FI (3件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R
引用特許：
審査官引用 (15件)
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