特許
J-GLOBAL ID：201103035383860069
電子ビーム露光装置及び電子ビーム露光方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡辺 喜平
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-039358
公開番号（公開出願番号）：特開2000-243683
特許番号：特許第3298539号
出願日： 1999年02月18日
公開日（公表日）： 2000年09月08日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 試料に形成すべきパターンに応じた開口を有するマスクと、このマスクの一定領域に荷電粒子ビームを照射させるための可変アパーチャと、この可変アパーチャを通過した荷電粒子ビームを前記マスク上でスキャンさせるスキャン手段と、荷電粒子ビームを前記可変アパーチャに向けて発射するビーム発生手段とを有する電子ビーム露光装置において、前記可変アパーチャと前記マスクとの間に配置されたビーム成形用アパーチャと、前記マスクに形成された異なるパターン密度に応じて異なる形状の前記荷電粒子ビームを照射するべく、前記ビーム成形用アパーチャに形成された異なる形状の複数の開口と、前記荷電粒子ビームを前記ビーム成形用アパーチャの前記開口に対して相対的に移動させ、前記開口を切り替える切り換え手段と、を有することを特徴とする電子ビーム露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 504
, H01J 37/305
G03F 7/20 504
, H01J 37/305 B
, H01L 21/30 541 B
, H01L 21/30 541 E
, H01L 21/30 541 S
出願人引用 (13件)
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審査官引用 (10件)
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