特許
J-GLOBAL ID:201103053226303910

反射面形状制御ミラー装置及び反射面形状制御ミラーの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-297734
公開番号(公開出願番号):特開2011-137710
出願日: 2009年12月28日
公開日(公表日): 2011年07月14日
要約:
【課題】 熱膨張係数の異なる材質の積層構造で、ミラー製造時の温度差に起因する歪による表面形状の加工誤差と、ナノ集光作業時の設置環境条件に起因する歪による表面形状の誤差を解消し、nmオーダーの形状精度を実現し、X線ビームを理想波面に変更し、また焦点距離可変な反射面形状制御ミラー装置を提供する。【解決手段】 基板1の表面中央部に帯状のX線反射面2を形成し、X線反射面の両側に沿って基準平面3を形成し、基板の両側部で少なくとも表裏一面に複数の圧電素子4をX線反射面の長手方向に並べて基板に接合した反射面形状制御ミラーと、各圧電素子に電圧を印加する多チャンネルのコントロールシステムとからなる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
軟X線から硬X線領域のX線ビームを反射させて理想波面に変更するための反射面形状制御ミラー装置であって、基板の表面中央部に帯状のX線反射面を形成し、該X線反射面の両側に沿って基準平面を形成するとともに、基板の両側部で少なくとも表裏一面に複数の圧電素子を前記X線反射面の長手方向に並べて基板に接合した反射面形状制御ミラーと、前記各圧電素子に電圧を印加する多チャンネルのコントロールシステムとからなる反射面形状制御ミラー装置。
IPC (2件):
G21K 1/06 ,  G02B 5/10
FI (4件):
G21K1/06 N ,  G21K1/06 B ,  G21K1/06 D ,  G02B5/10 B
Fターム (3件):
2H042DA12 ,  2H042DD13 ,  2H042DE00
引用特許:
審査官引用 (11件)
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