特許
J-GLOBAL ID：201103093020883296
位相シフトマスクの検査方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
鈴江 武彦
, 村松 貞男
, 橋本 良郎
, 河野 哲
, 中村 誠
, 河井 将次
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-058398
公開番号（公開出願番号）：特開2000-258891
特許番号：特許第4109783号
出願日： 1999年03月05日
公開日（公表日）： 2000年09月22日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 位相シフトマスクの投影パターン像を、露光装置のフォーカスを変えながらウェーハ上に露光する工程と、
前記位相シフトマスクの各フォーカスごとの投影パターン像の測定値と所望の寸法値との差から欠陥を検出することにより、前記ウェーハ上における、各フォーカスごとの投影パターン像をそれぞれ評価する工程と、
クロムマスクの投影パターン像を、前記露光装置のフォーカスを前記位相シフトマスクの露光時と同じように変えながらウェーハ上に露光する工程と、
前記クロムマスクの各フォーカスごとの投影パターン像の測定値と所望の寸法値との差から欠陥を検出することにより、前記ウェーハ上における、各フォーカスごとの投影パターン像をそれぞれ評価する工程と、
前記評価の結果にもとづいて、欠陥のない領域を判断することにより、前記位相シフトマスクの露光マージンを判断する工程と
を備え、
前記位相シフトマスクの露光マージンを判断する工程は、前記評価の結果である露光マージンの大きさを前記位相シフトマスクと前記クロムマスクとで比較し、前記位相シフトマスクの露光マージンが前記クロムマスクの露光マージンよりも小さいか等しい場合には、前記位相シフトマスクを用いての投影パターン像の形成を見送るようにしたことを特徴とする位相シフトマスクの検査方法。
IPC (2件)：
G03F 1/08 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
G03F 1/08 A
, G03F 1/08 S
, H01L 21/30 502 P
出願人引用 (3件)
審査官引用 (13件)
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引用文献：
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