特許
J-GLOBAL ID：201103094461103764
フォトマスク及びそれを用いた電子デバイスの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 学
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-391795
公開番号（公開出願番号）：特開2002-196483
特許番号：特許第3932805号
出願日： 2000年12月25日
公開日（公表日）： 2002年07月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 石英ガラス基板上に所望のパタンが形成された感光性樹脂塗膜からなる遮光体を有するフォトマスクであって、当該遮光体部のKrFエキシマレーザ光に対する透過率が1%以下であるフォトマスクであって、かつ当該石英ガラス基板上に所定パタン状のKrFエキシマレーザ光の位相をほぼ180度変える構造を持った位相シフタと呼ばれる構造を有することを特徴とするフォトマスク。
IPC (3件)：
G03F 7/004 ( 200 6.01)
, G03F 1/10 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
G03F 7/004 505
, G03F 1/10
, H01L 21/30 502 P
出願人引用 (14件)
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審査官引用 (17件)
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