特許
J-GLOBAL ID：201103096322798777

液処理装置及びその方法

発明者：
小西 信夫

小西 信夫 について

, 
廣瀬 圭蔵

廣瀬 圭蔵 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 井上 俊夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-126103
公開番号（公開出願番号）：特開2000-321786
特許番号：特許第3492546号
出願日： 1999年05月06日
公開日（公表日）： 2000年11月24日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 レジストが表面に塗布され、露光された後の円形の基板を水平に保持するための基板保持部と、基板に現像液を供給するための供給孔を備え、基板保持部に保持された基板の一端側から他端側に向かって移動可能な供給ノズルと、基板の有効領域の幅とほぼ同じ長さかそれよりも長い、前記供給ノズルの移動方向に直交する棒状体と、前記供給ノズルから基板に供給される現像液の流量を、供給ノズルが基板の中央部に向かうに連れて徐々に多くし、供給ノズルが基板の中央部を越えてからは徐々に少なくするように制御する制御手段と、を備え、前記棒状体は、基板保持部に保持された基板に供給孔から現像液を供給したときに、棒状体の進行方向側の面に供給孔よりの現像液が衝突し、かつ当該棒状体が基板表面の現像液に接触した状態で前記供給ノズルの移動方向に移動可能に設けられ、基板に供給された現像液を棒状体で押し広げることにより基板に現像液の液膜を形成することを特徴とする液処理装置。
IPC (2件)：
G03F 7/30 502 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
G03F 7/30 502 ,  H01L 21/30 569 F
引用特許：
審査官引用 (11件)
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