ハーフトーン位相シフトフォトマスク及びそのためのハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクス並びにこれを用いたパターン形成方法

発明者： , , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：韮澤弘 , 阿部龍吉 , 蛭川昌信 , 内田亘彦 , 菅井英雄 , 青木健二 , 米澤明
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-231180
公開番号（公開出願番号）：特開2001-056544
特許番号：特許第4197378号
出願日： 1999年08月18日
公開日（公表日）： 2001年02月27日
請求項（抜粋）：

【請求項1】透明基板上に少なくともクロムとフッ素とを含むハーフトーン位相シフト膜を有するハーフトーン位相シフトマスク用ブランクスにおいて、前記ハーフトーン位相シフト膜により実質的に吸収される波長の光を照射して、この膜の表面に安定化膜を形成することにより、露光用エキシマレーザー照射における光学特性変化を低減したことを特徴とするハーフトーン位相シフトマスク用ブランクス。

IPC (2件)：