特許
J-GLOBAL ID:201203000028114959
非接触浮上搬送機能を有する基板処理装置
発明者:
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出願人/特許権者:
,
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代理人 (1件):
井上 元廣
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-048647
公開番号(公開出願番号):特開2012-186325
出願日: 2011年03月07日
公開日(公表日): 2012年09月27日
要約:
【課題】基板の下面に非接触で基板を搬送し、基板を高速かつ安定的に移動させながら、基板の汚染やローラー痕の生成なく、基板の上下両面又は下面のみに処理を行う、非接触浮上搬送機能を有する基板処理装置を提供する。【解決手段】基板の上面と下面の両方又は下面のみに、水による洗浄処理、薬液による化学的処理、水によるリンス処理又は空気、窒素ガスといった気体による乾燥処理のいずれかの処理を行う、複数の基板処理ユニット7、8、9を備えてなる基板処理装置が、基板1の下面に向かって水、薬液、空気、窒素ガスといった流体を噴出して、基板1を浮上させ、基板1の下面に非接触でその位置を保持する、複数配置された基板浮上ユニット10と、基板1の左右両側のエッジ部に水平方向から接触して、基板1を移動させる複数配置された搬送ローラー12を有する基板搬送ユニットと、を備えている。【選択図】図4
請求項(抜粋):
基板の下面に水、薬液、空気、窒素ガスといった流体以外は接触させることなく基板を浮上させて、基板を移動させながら、前記基板の上面と下面の両方又は下面のみに、水による洗浄処理、薬液による化学的処理、水によるリンス処理又は基板上下より噴射する空気、窒素ガスといった気体による乾燥処理のいずれかの処理を行う、水又は薬液処理ユニット、リンス処理ユニット、乾燥処理ユニットといった複数の基板処理ユニットを備えてなる非接触浮上搬送機能を有する基板処理装置が、
前記基板の下面に向かって水、薬液、空気、窒素ガスといった流体を噴出し、前記基板を前記流体で浮上させて、前記基板の下面に非接触で前記基板の位置を保持する、連続して装置の全長にわたり複数配置された基板浮上ユニットと、
前記基板の搬送方向から見て前記基板の左右両側のエッジ部に水平方向から接触して、前記基板を移動させる複数配置された搬送ローラーを有する基板搬送ユニットと、
を備えたことを特徴とする非接触浮上搬送機能を有する基板処理装置。
IPC (6件):
H01L 21/677
, H01L 21/304
, H01L 21/027
, G02F 1/13
, G02F 1/133
, B65G 49/07
FI (9件):
H01L21/68 A
, H01L21/304 643B
, H01L21/304 651G
, H01L21/304 644E
, H01L21/30 569D
, H01L21/30 572B
, G02F1/13 101
, G02F1/1333 500
, B65G49/07 K
Fターム (47件):
2H088FA17
, 2H088FA21
, 2H088FA30
, 2H088HA01
, 2H088MA20
, 2H090JB02
, 2H090JC19
, 2H190JB02
, 2H190JC19
, 5F031CA02
, 5F031CA05
, 5F031FA01
, 5F031FA07
, 5F031GA28
, 5F031GA53
, 5F031GA63
, 5F031MA23
, 5F031MA24
, 5F031PA16
, 5F031PA23
, 5F146LA11
, 5F146LA19
, 5F146MA06
, 5F146MA10
, 5F157AB02
, 5F157AB18
, 5F157AB25
, 5F157AB33
, 5F157AB52
, 5F157AB82
, 5F157AC04
, 5F157AC27
, 5F157BA02
, 5F157BA14
, 5F157BA31
, 5F157BB23
, 5F157BB24
, 5F157BB32
, 5F157BB33
, 5F157BB52
, 5F157CB03
, 5F157CB16
, 5F157CE59
, 5F157CF14
, 5F157CF60
, 5F157DA21
, 5F157DB02
引用特許:
審査官引用 (13件)
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基板処理装置および基板処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-138647
出願人:シャープ株式会社
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基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-235734
出願人:株式会社シーズ
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基板搬送装置、基板搬送方法及びコンピュータプログラム
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-001865
出願人:東京エレクトロン株式会社
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特開平3-029919
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基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-351688
出願人:東京エレクトロン株式会社
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ウエハの洗浄方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-050506
出願人:ソニー株式会社
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基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-314586
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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高圧高速制御噴射ガン
公報種別:公開公報
出願番号:特願2007-231039
出願人:株式会社ゼビオス
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搬送システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-370004
出願人:村田機械株式会社
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基板搬送装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-012850
出願人:エスエフエイエンジニアリングコーポレイション
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半導体ウエハー及び液晶ガラスエアー浮上搬送装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-325762
出願人:日本エアーテック株式会社
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基板の洗浄装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2005-093991
出願人:シャープ株式会社
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浮揚物品搬送システム及び搬送方法
公報種別:公表公報
出願番号:特願2003-561307
出願人:オーボテックリミテッド, コアフロウリミテッド
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