特許
J-GLOBAL ID：200903028907270685

基板の洗浄装置

発明者：
田辺 真

田辺 真 について


出願人/特許権者：
シャープ株式会社

シャープ株式会社 について


代理人 (1件)： 上野 登
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-093991
公開番号（公開出願番号）：特開2006-276348
出願日： 2005年03月29日
公開日（公表日）： 2006年10月12日
要約：
【課題】 基板の洗浄効果を向上させつつ、超純水の使用量を減少させることができる基板の洗浄装置を提供する。【解決手段】 搬送される基板の表面に対して、基板の進行方向後方に向かって所定の角度θaをもたせて洗浄液を噴射する第一のシャワー56aと、この第一のシャワー56aの基板の搬送方向前方に配設され、基板の進行方向後方に向かって前記角度θaよりも大きい角度θbをもって洗浄液を噴射する第二のシャワー56bを備え、この第二のシャワー56bが噴射する洗浄液が基板に衝突する位置が、第一のシャワー56aが噴射する洗浄液が基板に衝突する位置の前記基板の進行方向前方の直近とする。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
搬送される基板の表面に洗浄液を噴射して該基板の表面を洗浄するシャワーを備える基板の洗浄装置であって、搬送される前記基板の表面に対して、該基板の進行方向後方に向かって傾斜をもたせて洗浄液を噴射する第一のシャワーと、該第一のシャワーの前記基板の搬送方向前方に配設され、前記基板の進行方向後方に向かって前記第一のシャワーが噴射する洗浄液の傾斜よりも大きい傾斜をもって洗浄液を噴射する第二のシャワーを備えることを特徴とする基板の洗浄装置。
IPC (4件)：
G02F 1/133 ,  B08B 3/02 ,  G02F 1/13 ,  H01L 21/304
FI (4件)：
G02F1/1333 500 ,  B08B3/02 B ,  G02F1/13 101 ,  H01L21/304 643B
Fターム (19件)：
2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA20 ,  2H090HC18 ,  2H090JA01 ,  2H090JA13 ,  2H090JB02 ,  2H090JC19 ,  3B201AA02 ,  3B201AB16 ,  3B201BA02 ,  3B201BB22 ,  3B201BB23 ,  3B201BB24 ,  3B201BB90 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201CC01
引用特許：
出願人引用 (4件)
  • 透明基板の洗浄方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-264505   出願人：松下電器産業株式会社
  • 基板洗浄装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-041088   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 基板洗浄装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-198844   出願人：鹿児島日本電気株式会社
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審査官引用 (10件)
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