特許
J-GLOBAL ID:201203045140673964

金属珪化物薄膜製造法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人みのり特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-273405
公開番号(公開出願番号):特開2012-121753
出願日: 2010年12月08日
公開日(公表日): 2012年06月28日
要約:
【課題】金属珪化物の正方晶の薄膜を常温下で製造できる方法を提供する。【解決手段】エアロゾル薄膜堆積法を用い、金属珪化物の微粒子をキャリアガスと混合してエアロゾル化したものを、常温減圧下の雰囲気で、ノズルを通じて所定の速度で基板に噴射し、衝撃固化現象を利用して微粒子を基板上に付着させることによって、金属珪化物の薄膜を製造する。【選択図】なし
請求項(抜粋):
エアロゾル薄膜堆積法を用い、金属珪化物の微粒子をキャリアガスと混合してエアロゾル化したものを、常温減圧下の雰囲気で、ノズルを通じて所定の速度で基板に噴射し、衝撃固化現象を利用して前記微粒子を前記基板上に付着させることによって、前記金属珪化物の微粒子の結晶構造を維持した前記金属珪化物の薄膜を製造することを特徴とする金属珪化物薄膜製造法。
IPC (2件):
C01B 33/06 ,  C23C 24/04
FI (2件):
C01B33/06 ,  C23C24/04
Fターム (30件):
4G072AA20 ,  4G072BB05 ,  4G072BB09 ,  4G072CC08 ,  4G072FF01 ,  4G072FF02 ,  4G072FF06 ,  4G072GG02 ,  4G072GG03 ,  4G072GG04 ,  4G072HH02 ,  4G072JJ38 ,  4G072LL02 ,  4G072LL03 ,  4G072MM32 ,  4G072RR01 ,  4G072RR11 ,  4G072UU01 ,  4G072UU30 ,  4K044AA11 ,  4K044AA12 ,  4K044AA16 ,  4K044AB02 ,  4K044BA19 ,  4K044BB01 ,  4K044BB11 ,  4K044BC14 ,  4K044CA29 ,  4K044CA51 ,  4K044CA53
引用特許:
審査官引用 (6件)
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