特許
J-GLOBAL ID：201203051234838410
基板からテンプレートを分離する際の応力の低減
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
山川 政樹
, 山川 茂樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-532095
公開番号（公開出願番号）：特表2012-506618
出願日： 2009年10月20日
公開日（公表日）： 2012年03月15日
要約：
インプリント・リソグラフィプロセスにおいてインプリント・リソグラフィ・テンプレートとパターン層を分離することにより、テンプレートのフィーチャおよび/またはパターン層のフィーチャに対する応力が生じることがある。そのような応力は、空領域内のダミー・フィーチャを含むテンプレート上の空領域を最小にしおよび/またはテンプレート上にフィーチャを選択的に位置決めすることによって減少されてもよい。
請求項（抜粋）：
インプリント・リソグラフィ・テンプレートであって、
複数のクラスタを有し、各クラスタが、少なくとも1つの稠密フィーチャ領域を有し、前記稠密フィーチャ領域が、約0.5〜3の縦横比を有する複数のフィーチャを有し、各クラスタが、長さを有する空領域によって分離され、前記長さの大きさが、約200ミクロン以下であるインプリント・リソグラフィ・テンプレート。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 502D
, B29C59/02 B
4F209AF01
, 4F209AG05
, 4F209AH33
, 4F209AH73
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PC05
, 4F209PN06
, 4F209PN09
, 4F209PQ11
, 5F146AA32
