特許
J-GLOBAL ID：200903051564366276
基板処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-267331
公開番号（公開出願番号）：特開2006-310732
出願日： 2005年09月14日
公開日（公表日）： 2006年11月09日
要約：
【課題】 基板上の感光性材料の成分が露光装置における液体中に溶出することを防止できる基板処理装置を提供することである。【解決手段】 基板処理装置500は、インデクサブロック9、反射防止膜用処理ブロック10、レジスト膜用処理ブロック11、現像処理ブロック12、洗浄処理ブロック13およびインターフェースブロック14を備える。インターフェースブロック14に隣接するように露光装置15が配置される。洗浄処理ブロック13は洗浄処理部80を備える。レジスト膜用処理ブロック11において基板W上にレジスト膜が形成される。露光装置において基板Wに露光処理が行なわれる前に、洗浄処理部80において基板Wの洗浄および乾燥処理が行われる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
露光装置に隣接するように配置される基板処理装置であって、
基板に処理を行うための処理部と、
前記処理部の一端部に隣接するように設けられ前記処理部と前記露光装置との間で基板の受け渡しを行うための受け渡し部とを備え、
前記処理部は、
基板に感光性材料からなる感光性膜を形成する第1の処理ユニット、基板に熱処理を行う第1の熱処理ユニットおよび基板を搬送する第1の搬送ユニットを含む第1の処理単位と、
前記露光装置による露光処理後に基板に現像処理を行う第2の処理ユニット、基板に熱処理を行う第2の熱処理ユニットおよび基板を搬送する第2の搬送ユニットを含む第2の処理単位と、
前記第1の処理ユニットによる前記感光性膜の形成後であって前記露光装置による露光処理前に基板の洗浄処理を行う第3の処理ユニットおよび基板を搬送する第3の搬送ユニットを含む第3の処理単位とを備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (7件)：
H01L 21/027
, H01L 21/677
, B65G 49/06
, B05C 11/08
, B05C 9/14
, B05C 11/10
, B05C 13/02
H01L21/30 564Z
, H01L21/68 A
, B65G49/06 Z
, B05C11/08
, B05C9/14
, B05C11/10
, B05C13/02
4F042AA02
, 4F042AA06
, 4F042AA10
, 4F042CC04
, 4F042CC09
, 4F042CC10
, 4F042DB17
, 4F042DF09
, 4F042DF15
, 4F042DF25
, 4F042EB16
, 5F031CA01
, 5F031CA02
, 5F031CA05
, 5F031DA01
, 5F031FA01
, 5F031FA02
, 5F031FA07
, 5F031FA11
, 5F031FA12
, 5F031FA15
, 5F031GA03
, 5F031GA40
, 5F031GA47
, 5F031GA48
, 5F031GA49
, 5F031HA13
, 5F031HA37
, 5F031HA38
, 5F031HA48
, 5F031HA59
, 5F031MA02
, 5F031MA03
, 5F031MA23
, 5F031MA24
, 5F031MA26
, 5F031MA27
, 5F031NA04
, 5F031PA23
, 5F046JA04
, 5F046JA22
出願人引用 (2件)
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基板処理装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2002-129817
出願人：大日本スクリーン製造株式会社
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国際公開第99/49504号パンフレット
審査官引用 (14件)
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