特許
J-GLOBAL ID：201203084762745860
EUVマスク検査装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
家入 健
, 岩瀬 康弘
, 小川 潔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-268104
公開番号（公開出願番号）：特開2012-118304
出願日： 2010年12月01日
公開日（公表日）： 2012年06月21日
要約：
【課題】EUV光源を用いた、高感度な検査を行うことができるEUVマスク検査装置を提供すること。【解決手段】本発明にかかるEUV(Extreme Ultra Violet)マスク検査装置100は、EUV光源101、照明光学系、シュバルツシルト光学系108及びTDIセンサー109を有する。照明光学系は、シュバルツシルト光学系108を含む検査光学系内に配置された多層膜凹面鏡102を有する。多層膜凹面鏡102は、EUV光源101からのEUV光EUV11をEUVマスク110へ向けて反射する。シュバルツシルト光学系108は、正反射光S1を集光する。TDIセンサー109は、シュバルツシルト光学系108が集光した正反射光S1を検出することにより、EUVマスク110の明視野像を取得する。多層膜凹面鏡102は、シュバルツシルト光学系108への正反射光S1の入射を遮らない位置に配置される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
EUV(Extreme Ultra Violet)光を含む照明光を発生させる光源と、
IPC (3件)：
G03F 1/00
, H01L 21/027
, G03F 1/22
G03F1/00 V
, H01L21/30 502V
, H01L21/30 531M
, G03F1/16 A
2H095BD01
, 2H095BD02
, 5F046GD10
, 5F146GA21
, 5F146GA28
, 5F146GD00
, 5F146GD22
