露光装置及び露光方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：田村敬二郎 , 小林研一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-076574
公開番号（公開出願番号）：特開2013-179305
出願日： 2013年04月02日
公開日（公表日）： 2013年09月09日
要約：

【課題】小型化が可能でかつ安定した動作でマスクレス露光が可能な露光装置を提供する。また、被露光面に段差のある被露光物に対しマスクレス露光により高精度な露光が可能な露光装置及び露光方法を提供する。【解決手段】この露光装置10は、光源12と、ミラーMを繰り返し傾斜させるMEMS光スキャナと、光源からの光をミラーを介して被露光物上に露光する露光光学系と、を備え、光源からの光をMEMS光スキャナで傾斜するミラーにより走査して被露光物上に照射することで被露光物を露光する。被露光面に対する垂直方向における被露光物に対する照射位置を鏡筒アクチュエータにより調整する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

光源と、ミラーを繰り返し傾斜させるMEMS光スキャナと、前記光源からの光を前記ミラーを介して被露光物上に露光する露光光学系と、を備え、前記光源からの光を前記MEMS光スキャナで傾斜するミラーにより走査して前記被露光物上に照射することで前記被露光物を露光する露光装置。

IPC (9件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 , G01B 11/24 , H01L 21/683 , G02B 19/00 , G02B 7/182 , G02B 7/09 , G02B 7/32 , G02B 7/28

FI (9件)：

H01L21/30 529 , G03F7/20 501 , G01B11/24 A , H01L21/68 N , G02B19/00 , G02B7/18 Z , G02B7/04 A , G02B7/11 B , G02B7/11 M

Fターム (50件)：

2F065AA54 , 2F065BB02 , 2F065CC19 , 2F065DD03 , 2F065FF04 , 2F065FF10 , 2F065FF15 , 2F065GG04 , 2F065HH04 , 2F065JJ01 , 2F065JJ03 , 2F065JJ05 , 2F065JJ18 , 2F065JJ26 , 2F065LL04 , 2F065LL12 , 2F065LL46 , 2F065MM03 , 2F065MM04 , 2F065MM07 , 2F065PP12 , 2F065PP24 , 2H043CD04 , 2H043CE00 , 2H044BA01 , 2H052BA02 , 2H052BA03 , 2H052BA09 , 2H052BA12 , 2H097GB04 , 2H097LA10 , 2H097LA11 , 2H151AA10 , 2H151BA00 , 2H151CB11 , 2H151CC02 , 5F131AA02 , 5F131BA13 , 5F131CA38 , 5F131EA02 , 5F131EA22 , 5F131EA23 , 5F131EA24 , 5F131EA25 , 5F131KA03 , 5F131KA11 , 5F131KB32 , 5F146BA07 , 5F146CB02 , 5F146DA03

引用特許：

審査官引用 (12件)

走査露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-351649 出願人：三星電子株式会社
光学記録方法及び光学記録装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-253537 出願人：ソニー株式会社
露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-250761 出願人：国立大学法人東北大学

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