特許
J-GLOBAL ID：200903034376563224

マスクレス露光装置及びその露光方法並びに配線基板の製造方法

発明者：
山口 欣秀

山口 欣秀 について

, 
小山 洋

小山 洋 について


出願人/特許権者：
日立ビアメカニクス株式会社

日立ビアメカニクス株式会社 について


代理人 (2件)： 小川 勝男 ,  田中 恭助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-063411
公開番号（公開出願番号）：特開2006-250982
出願日： 2005年03月08日
公開日（公表日）： 2006年09月21日
要約：
【課題】 汎用の感光性樹脂に対するマスクレスでの直接露光を高スループットかつ無欠陥で実現するマスクレス露光装置及びその露光方法並びに配線基板の製造方法を提供することにある。 【解決手段】 紫外露光光を出射する主照射光学系3と、該出射された紫外露光光を画素毎に変調させて所望の露光パターンを形成する光変調光学系5及び該所望の露光パターンを被露光物の表面に結像させる結像光学系7を有する露光ヘッド30と、該露光ヘッドの結像光学系で結像される所望の露光パターンと前記被露光物の表面とを相対的に走査する走査手段2と、さらに、前記被露光物の表面の色調パターンデータを測定する色調測定手段12を備えたマスクレス露光装置を提供する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
紫外露光光を出射する主照射光学系と、 該主照射光学系から出射された紫外露光光を露光パターンデータに基づいて画素毎に変調させて所望の露光パターンを形成する光変調光学系と、 該光変調光学系で形成された所望の露光パターンを被露光物の表面に結像させる結像光学系と、 該結像光学系で結像される所望の露光パターンと前記被露光物の表面とを相対的に走査する走査手段と、 さらに、前記被露光物の表面の色調パターンデータを測定する色調測定手段を備えたことを特徴とするマスクレス露光装置。
IPC (2件)：
G03F 7/20 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
G03F7/20 501 ,  H01L21/30 529
Fターム (6件)：
2H097AA03 ,  2H097BB01 ,  2H097CA17 ,  5F046AA18 ,  5F046BA07 ,  5F046CB18
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (16件)
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