特許
J-GLOBAL ID:201303017860071787

誘電体コーティングされたミラー

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 杉村 憲司 ,  下地 健一 ,  坪内 伸
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-511684
公開番号(公開出願番号):特表2013-529318
出願日: 2011年05月26日
公開日(公表日): 2013年07月18日
要約:
[誘電体コーティングを有するミラー]基板(3)上に誘電体コーティング(2)を有し、エタロンへの利用が提案されるミラーであって、誘電体コーティング(2)は、基板上に高屈折率酸化物層(41)および低屈折率酸化物層(42)が交互に配置される第1積層(4)と、該第1積層(4)の上にフッ化物層(52)および酸化物層(51)が交互に配置された第2の積層(5)との、ちょうど2つの積層を有し、フッ化物層(52)の層数が誘電体コーティング(2)の全層数に対する割合として、0.45未満である。【選択図】図1
請求項(抜粋):
基板(3)上に、誘電体コーティング(2)を有するミラーであって、 前記誘電体コーティング(2)は、ちょうど2つの積層(4、5)であって、前記基板上に高屈折率酸化物層(41)および低屈折率酸化物層(42)が交互に配置される第1積層(4)と、該第1積層(4)の上にフッ化物層(52、512、502、523)および酸化物層(51、511、501、521、522)が交互に配置される第2積層(5、5A、5B、5C)とを有し、 フッ化物層(52、512、502、523)の層数が、前記誘電体コーティング(2)の全層数に対する割合として、0.45未満であるミラー。
IPC (1件):
G02B 5/08
FI (1件):
G02B5/08 A
Fターム (9件):
2H042DA08 ,  2H042DA12 ,  2H042DB02 ,  2H042DC02 ,  2H042DD00 ,  2H042DE07 ,  2H048FA05 ,  2H048FA18 ,  2H048FA24
引用特許:
審査官引用 (12件)
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