特許
J-GLOBAL ID：201303075417641279
ナノインプリント方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
藤枡 裕実
, 深町 圭子
, 伊藤 英生
, 後藤 直樹
, 伊藤 裕介
, 立石 英之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-149901
公開番号（公開出願番号）：特開2013-251560
出願日： 2013年07月18日
公開日（公表日）： 2013年12月12日
要約：
【課題】 本発明は、より簡便にモールドと転写樹脂層を離型できるナノインプリント方法およびナノインプリント装置を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明に係るナノインプリント方法は、基材上に紫外線硬化樹脂からなる樹脂層を形成し、前記樹脂層に対して、凹凸パターン部を有するモールドを、前記凹凸パターン部が前記樹脂層に接触するように押し当て、紫外線硬化樹脂の硬化を阻害する気体を含む雰囲気下で、前記樹脂層に紫外線を照射して前記樹脂層を硬化させることを特徴とする。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
基材上に紫外線硬化樹脂からなり、第1の領域及び第2の領域を含む樹脂層を形成し、
前記樹脂層の前記第1の領域に対して、凹凸パターン部を有するモールドを、前記凹凸パターン部が前記樹脂層の前記第1の領域に接触するように押し当て、
前記樹脂層の前記第2の領域を、紫外線硬化樹脂の硬化を阻害する気体に曝しながら、前記樹脂層の前記第1の領域に紫外線を照射して前記樹脂層の前記第1の領域を硬化させ、
次に前記樹脂層の前記第2の領域に対して、凹凸パターン部を有するモールドを、前記凹凸パターン部が前記樹脂層の前記第2の領域に接触するように押し当て、
前記樹脂層の前記第2の領域に紫外線を照射して前記樹脂層の前記第2の領域を硬化させることを特徴とするナノインプリント方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 502D
, B29C59/02 Z
4F209AA44
, 4F209AF01
, 4F209AG05
, 4F209AM30
, 4F209PA02
, 4F209PA18
, 4F209PB01
, 4F209PJ06
, 4F209PN06
, 4F209PN09
, 5F146AA34
, 5F146DA27
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (11件)
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