特許
J-GLOBAL ID：201303087125096421

露光装置、露光方法及びデバイス製造方法

発明者：
福井 達雄

福井 達雄 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 酒井 宏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-069990
公開番号（公開出願番号）：特開2013-200506
出願日： 2012年03月26日
公開日（公表日）： 2013年10月03日
要約：
【課題】互いに対向して配置されるプレートとマスクとの間の距離に関する情報を所定範囲にわたって求めること。【解決手段】露光装置1は、マスクMを支持するマスクステージと、マスクMに形成されたパターンが露光されるプレートPを支持するプレートステージと、マスクステージとプレートステージとの間を移動し、かつマスクからの光を通過させてマスクに形成されたパターンをプレートの表面に結像させるマイクロレンズアレイと、マスクステージとプレートステージとの間を移動して、プレートPからの反射光及び前記マスクMからの反射光を検出する距離計100と、距離計100の検出結果に基づき、プレートPとマスクMとの距離に関する情報を求める演算部と、を含む。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
マスクに形成されたパターンをプレートに露光する露光装置であって、 前記マスクを支持するマスクステージと、 前記マスクステージに支持された前記マスクに対向させた状態に前記プレートを支持するプレートステージと、 前記マスクステージに支持された前記マスクと前記プレートステージに支持された前記プレートとの間を移動可能に設けられたレンズアレイを含み、前記パターンの像を前記プレートに投影する投影光学系と、 前記マスクステージに支持された前記マスクと前記プレートステージに支持された前記プレートとの間を移動可能に設けられ、前記プレートに光を照射して該プレートからの反射光を検出し、かつ前記マスクに光を照射して該マスクからの反射光を検出する検出部と、 前記検出部の検出結果に基づき、前記プレートと前記マスクとの距離に関する情報を求める演算部と、 を含むことを特徴とする露光装置。
IPC (5件)：
G03F 7/207 ,  H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G02B 3/00 ,  G02B 7/28
FI (6件)：
G03F7/207 Z ,  H01L21/30 515D ,  H01L21/30 526A ,  G01B11/00 B ,  G02B3/00 A ,  G02B7/11 M
Fターム (39件)：
2F065AA06 ,  2F065AA09 ,  2F065AA33 ,  2F065BB13 ,  2F065CC20 ,  2F065DD02 ,  2F065FF41 ,  2F065FF55 ,  2F065GG04 ,  2F065GG07 ,  2F065JJ01 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ15 ,  2F065JJ18 ,  2F065LL02 ,  2F065LL04 ,  2F065LL10 ,  2F065LL12 ,  2F065LL30 ,  2F065LL42 ,  2F065PP03 ,  2F065QQ17 ,  2H097BA01 ,  2H097GB01 ,  2H097GB02 ,  2H097GB03 ,  2H097KA38 ,  2H097LA11 ,  2H151AA10 ,  2H151BB28 ,  2H151CB29 ,  2H151CC03 ,  5F146BA04 ,  5F146BA05 ,  5F146CB12 ,  5F146CB45 ,  5F146DA14 ,  5F146DB05 ,  5F146DB08
引用特許：
審査官引用 (13件)
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