特許
J-GLOBAL ID：201403002679895190

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者：
市川 幸司

市川 幸司 について

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宮川 貴行

宮川 貴行 について

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山口 訓史

山口 訓史 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-102861
公開番号（公開出願番号）：特開2013-257552
出願日： 2013年05月15日
公開日（公表日）： 2013年12月26日
要約：
【課題】パターン倒れ耐性(PCM)に優れるレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式(I)で表される構造単位及び酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂、酸発生剤、並びに、式(II)で表される化合物を含有するレジスト組成物。[式中、R1は、ハロゲン原子を有してもよいアルキル基、水素原子又はハロゲン原子;A1は、単結合、*-A2-O-、*-A2-CO-O-、*-A2-CO-O-A3-CO-O-又は*-A2-O-CO-A3-O-、*は-O-との結合手;A2及びA3は、それぞれ独立に、アルカンジイル基;環W1は、飽和複素環;R3は、炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる1以上のメチレン基は酸素原子又はカルボニル基で置き換わっている。]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(I)で表される構造単位及び酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂、酸発生剤、並びに、式(II)で表される化合物を含有するレジスト組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/038 ,  C08F 220/28 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/038 601 ,  C08F220/28 ,  H01L21/30 502R
Fターム (34件)：
2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF35P ,  2H125AF38P ,  2H125AH04 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH23 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AN11P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125AN88P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC01 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  2H125FA05 ,  4J100AL08P ,  4J100BA11P ,  4J100BA15P ,  4J100BC53P ,  4J100CA03 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (10件)
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