特許
J-GLOBAL ID：201203074103091793

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者：
市川 幸司

市川 幸司 について

, 
山口 訓史

山口 訓史 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-043336
公開番号（公開出願番号）：特開2012-208476
出願日： 2012年02月29日
公開日（公表日）： 2012年10月25日
要約：
【課題】優れたマスクエラーファクターを有し、かつ欠陥の発生が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物の提供。【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、(A2)アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、酸発生剤、式(II)で表される化合物及び溶剤を含有するレジスト組成物。[式中、R1は水素原子又はメチル基;A1は、-(CH2)m1-、-(CH2)m2-O-(CH2)m3-又は-(CH2)m4-CO-O-(CH2)m5-;m1〜m5は、それぞれ独立に、1〜6の整数;R2はフッ素原子を有する炭化水素基;環W1は飽和複素環を表す。]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A1)式(I)で表される構造単位を有する樹脂、 (A2)アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、 (B)酸発生剤及び、 (D)式(II)で表される化合物を含有するレジスト組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/24
FI (5件)：
G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/033 ,  H01L21/30 502R ,  C08F20/24
Fターム (41件)：
2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF38P ,  2H125AF45P ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH23 ,  2H125AH24 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AM22P ,  2H125AM99P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN88P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BB12P ,  4J100BB18P ,  4J100BB18Q ,  4J100BC04P ,  4J100BC09Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100DA01 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (15件)
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審査官引用 (15件)
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