特許
J-GLOBAL ID：201403011160568701

薄膜封止の製造装置及び薄膜封止の製造方法

発明者：
許 明 洙

許 明 洙 について

, 
李 正 浩

李 正 浩 について

, 
李 勇 錫

李 勇 錫 について


出願人/特許権者：
三星ディスプレイ株式會社

三星ディスプレイ株式會社 について


代理人 (2件)： 松永 宣行 ,  辻 徹二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-256884
公開番号（公開出願番号）：特開2014-123727
出願日： 2013年12月12日
公開日（公表日）： 2014年07月03日
要約：
【課題】薄膜封止の製造装置及び薄膜封止の製造方法を提供する。【解決手段】薄膜封止の製造装置100は、ディスプレイ基板上にスパッタリング工程で第1無機層を形成する第1クラスタ120と、第1クラスタ120から移送された第1無機層上に、有機物蒸着工程で第1有機層を形成する第2クラスタ130と、第2クラスタ130から移送された第1有機層上に、化学気相蒸着工程またはプラズマ化学気相蒸着工程で第2無機層を形成する第3クラスタ140と、を備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ディスプレイ基板上にスパッタリング工程で第1無機層を形成する第1クラスタと、 前記第1クラスタから移送された第1無機層上に、有機物蒸着工程で第1有機層を形成する第2クラスタと、 前記第2クラスタから移送された第1有機層上に、化学気相蒸着工程またはプラズマ化学気相蒸着工程で第2無機層を形成する第3クラスタと、を備える薄膜封止の製造装置。
IPC (7件)：
H01L 21/31 ,  H05B 33/04 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/10 ,  C23C 16/54 ,  C23C 14/56 ,  H01L 21/312
FI (9件)：
H01L21/31 B ,  H05B33/04 ,  H05B33/14 A ,  H05B33/10 ,  C23C16/54 ,  C23C14/56 F ,  H01L21/31 D ,  H01L21/31 C ,  H01L21/312 N
Fターム (62件)：
3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC23 ,  3K107CC41 ,  3K107CC45 ,  3K107EE48 ,  3K107EE49 ,  3K107EE50 ,  3K107GG28 ,  3K107GG37 ,  3K107GG42 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA41 ,  4K029BA62 ,  4K029BB03 ,  4K029CA05 ,  4K029CA11 ,  4K029HA01 ,  4K029KA01 ,  4K029KA09 ,  4K030AA06 ,  4K030AA13 ,  4K030AA18 ,  4K030BA40 ,  4K030BB14 ,  4K030CA06 ,  4K030CA12 ,  4K030FA01 ,  4K030GA12 ,  4K030KA11 ,  4K030KA12 ,  5F045AA03 ,  5F045AA06 ,  5F045AA08 ,  5F045AA18 ,  5F045AA19 ,  5F045AB31 ,  5F045AB32 ,  5F045AB33 ,  5F045AB39 ,  5F045BB16 ,  5F045BB19 ,  5F045CA09 ,  5F045DP02 ,  5F045EB02 ,  5F045EB08 ,  5F045EB09 ,  5F045EB10 ,  5F045HA24 ,  5F058AD04 ,  5F058AF01 ,  5F058AG01 ,  5F058AG09 ,  5F058AH03 ,  5F058BD10 ,  5F058BD19 ,  5F058BF04 ,  5F058BF07 ,  5F058BF23 ,  5F058BF30 ,  5F058BJ03
引用特許：
出願人引用 (13件)
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審査官引用 (13件)
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