特許
J-GLOBAL ID：201403050526818493
形状測定装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-258825
公開番号（公開出願番号）：特開2014-106094
出願日： 2012年11月27日
公開日（公表日）： 2014年06月09日
要約：
【課題】測定対象物の形状を短時間かつ高い精度で測定することが可能になるとともに低コスト化が実現可能な形状測定装置を提供する。【解決手段】投光部110Aは、パターン生成部112および両側テレセントリック光学系TTを含む。パターン生成部112は、形状測定用のパターンを有する測定光束を生成する。両側テレセントリック光学系TTは、生成された測定光束をステージ140の斜め上方からステージ140の上面に導く。受光部は、ステージ140に載置された測定対象物からステージ140の上方に向かう反射光束を受光し、受光量を示す受光信号を出力する。ステージ140、パターン生成部112、および投光部110Aの両側テレセントリック光学系TTは、パターン生成部112の出射面とステージ140の上面とが両側テレセントリック光学系TTの主平面に関してシャインプルーフの原理に従うように配置される。【選択図】図9
請求項（抜粋）：
測定対象物に測定光束を照射するとともに測定対象物からの反射光束に基づいて三角測距方式により測定対象物の立体形状を測定する形状測定装置であって、
測定対象物が載置される上面を有するステージと、
前記ステージの上面に向かって斜め上方から測定光束を投光する第1の投光装置と、
前記ステージに載置された測定対象物から前記ステージの上方に反射される光束を受光し、受光量を示す受光信号を出力するように構成される受光装置とを備え、
前記第1の投光装置は、
光を発生する第1の光源と、
前記第1の光源により発生された光から形状測定用のパターンを有する光を測定光束として生成して出射する第1のパターン生成部と、
前記第1のパターン生成部により出射された測定光束を前記ステージの上面に導く第1の両側テレセントリック光学系とを含み、
前記ステージ、前記第1のパターン生成部および前記第1の両側テレセントリック光学系は、前記第1のパターン生成部の出射面と前記ステージの上面とが前記第1の両側テレセントリック光学系の主平面に関してシャインプルーフの原理に従うように配置される、形状測定装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (21件)：
2F065AA53
, 2F065FF01
, 2F065FF02
, 2F065FF09
, 2F065GG07
, 2F065GG17
, 2F065GG18
, 2F065GG23
, 2F065GG24
, 2F065HH05
, 2F065HH06
, 2F065HH12
, 2F065HH14
, 2F065JJ03
, 2F065JJ09
, 2F065JJ26
, 2F065LL41
, 2F065LL59
, 2F065MM01
, 2F065PP12
, 2F065PP23
