熱処理装置および熱処理方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：吉竹英俊 , 有田貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-271573
公開番号（公開出願番号）：特開2014-116552
出願日： 2012年12月12日
公開日（公表日）： 2014年06月26日
要約：

【課題】フラッシュランプおよびハロゲンランプの双方について、光照射時における基板の面内温度分布を均一にすることができる熱処理装置および熱処理方法を提供する。【解決手段】チャンバー6内にて半導体ウェハーWを保持するサセプター70が昇降駆動部20によって昇降可能とされている。ハロゲンランプHLによる予備加熱を行うときにはサセプター70が予備加熱位置に移動する。予備加熱位置は、ハロゲンランプHLから半導体ウェハーWに照射される光の面内照度分布が最も均一となるサセプター70の高さ位置である。予備加熱終了後、フラッシュランプFLからフラッシュ光を照射するときにはサセプター70がフラッシュ加熱位置に移動する。フラッシュ加熱位置は、フラッシュランプFLから半導体ウェハーWに照射されるフラッシュ光の面内照度分布が最も均一となるサセプター70の高さ位置である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板に光を照射することによって該基板を加熱する熱処理装置であって、基板を収容するチャンバーと、前記チャンバー内にて基板を載置して保持するサセプターと、前記サセプターに保持された基板の一方面に光を照射して所定の予備加熱温度に予備加熱するハロゲンランプと、予備加熱された基板の他方面にフラッシュ光を照射するフラッシュランプと、前記サセプターを昇降させる昇降駆動部と、前記ハロゲンランプによる予備加熱を行うときには基板を保持する前記サセプターが第1の位置に移動するとともに、前記フラッシュランプからフラッシュ光を照射するときには前記サセプターが第2の位置に移動するように前記昇降駆動部を制御する昇降制御手段と、を備えることを特徴とする熱処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/26 , H01L 21/265

FI (4件)：

H01L21/26 T , H01L21/265 602B , H01L21/26 Q , H01L21/26 J

引用特許：

出願人引用 (9件)

熱処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-400964 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
熱処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-068375 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
シャワーヘッドを備える急速熱処理チャンバ
公報種別：公表公報出願番号：特願2011-517616 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド

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審査官引用 (7件)

熱処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-400964 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
熱処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-068375 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
シャワーヘッドを備える急速熱処理チャンバ
公報種別：公表公報出願番号：特願2011-517616 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド

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